胺基/氧化胺修饰的苝二酰亚胺衍生物，其制备方法及应用技术

本发明专利技术提供一种胺基/氧化胺修饰的苝二酰亚胺衍生物及其制备方法与应用。本发明专利技术提供的胺基修饰的苝二酰亚胺衍生物，其结构通式如式I或式II所示，其中，R1选自C1-C10的亚烷基；R2可以相同或不同，各自独立地选自H，C1-C10的烷基，R4取代的C1-C10的烷基；其中R4选自羟基、卤素，烷氧基；R3可以相同或不同，各自独立地选自H、OH、N（R5）2、Cl或Br，其中R5相同或不同，选自H或C1-6烷基。这些苝二酰亚胺材料合成路线具有简单高效、环境污染小、原料廉价、合成成本低、具有很好普适性和重复性等优点，所述胺基\氧化胺极性基团不含有对阴离子，显著提高器件的稳定性。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种胺基修饰的苝二酰亚胺衍生物，其结构通式如式I或式II所示，其中，R1选自C1?C10的亚烷基；R2可以相同或不同，各自独立地选自H，C1?C10的烷基，R4取代的C1?C10的烷基；其中R4选自羟基、卤素（优选F，Cl，Br），烷氧基（如C1?6烷氧基，优选C1?3烷氧基）R3可以相同或不同，各自独立地选自H、OH、N（R5）2、Cl或Br，其中R5相同或不同，选自H或C1?6烷基。FDA0000413637460000011.jpg

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张志国，王吉政，靳志文，李永舫，
申请(专利权)人：中国科学院化学研究所，
类型：发明
国别省市：