一种表面改性剂，其为含有有机硅酮化合物的表面改性剂，所述有机硅酮化合物由通式(A)和/或通式(B)表示：F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)rSi(X')3-a(R1)a??(A)??和F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r(X')2-a(R1)aSiO(F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r(X')1-a(R1)aSiO)zF-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r(X')2-a(R1)aSi??(B)，其中，q是1～3的整数；m、n和o独立地为0～200的整数；p是1或2；X是O或者二价有机基团；r是2～20的整数；R1是C1-22直链或支化的烃基；a是0～2的整数；X'是水解性基团；以及当a为0或1时，z是0～10的整数。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种表面改性剂，其为含有有机硅酮化合物的表面改性剂，所述有机硅酮化合物由通式(A)和/或通式(B)表示：F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)rSi(X')3-a(R1)a--(A)--和F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r(X')2-a(R1)aSiO(F-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r(X')1-a(R1)aSiO)zF-(CF2)q-(OC3F6)m-(OC2F4)n-(OCF2)o(CH2)pX(CH2)r(X')2-a(R1)aSi--(B)，其中，q是1～3的整数；m、n和o独立地为0～200的整数；p是1或2；X是O或者二价有机基团；r是2～20的整数；R1是C1-22直链或支化的烃基；a是0～2的整数；X'是水解性基团；以及当a为0或1时，z是0～10的整数。【专利说明】表面改性剂本申请是分案申请，其原申请的申请号为200680010403.8，申请日为2006年3月30日，专利技术名称为“表面改性剤”。
本专利技术涉及用于在各种基材的表面上形成低表面张カ层或防尘层的表面改性剂，以及使用所述表面改性剂形成处理层的方法。此外，本专利技术涉及光学元件(例如，抗反射膜、光学滤镜、光学透镜、眼镜镜片、分光镜(beam splitter)、棱镜、镜子等)，其中使用了所述表面改性剂；应用在显示器(例如，液晶显示器、CRT显示器、投影电视、等离子体显示器、EL显示器等)的屏幕表面的抗反射光学元件；光学功能性元件；其中所述光学功能性元件粘附在显示屏表面的显示器装置；经处理的镜片；经处理的陶器等。
技术介绍
抗反射涂层、光学滤镜、光学透镜、柔性焦距透镜组、分光镜、棱镜、镜子和其他光学元件以及卫浴用具在使用时易于沾上指紋、皮肤油(skin oil)、汗、化妆品等。一旦沾上，这些污垢不易清除，特别是，粘在具有抗反射涂层的光学元件上的污垢非常明显并造成问题。此外，汽车和飞机的窗户要求具有持久的防水性。为解决与污垢和防水性相关的问题，迄今已提出使用各种防污剂的技木。例如，日本未审查专利公报第1997-61605号已提出通过使用含全氟烷基的化合物对基材进行表面处理而得到的防污抗反射滤镜。日本已审查专利公报第1994-29332号已提出一种防污、低反射塑料，在其表面上具有包括含聚氟烷基的单硅烷和ニ硅烷化合物和卤素硅烷、烷基硅烷或烷氧基硅烷化合物的抗反射涂层。日本未审查专利公报第1995-16940号已提出通过在主要由ニ氧化硅构成的光学薄膜上形成(甲基)丙烯酸全氟烷基酯和含烷氧基硅烷基团的单体的共聚物而得到的光学元件。然而，由迄今已知的方法形成的防污涂层具有的防污性不足，尤其是，难以从其上去除诸如指纹、皮肤油、汗和化妆品等污垢。此外，当长期使用时，其防污性大大降低。因此，需要开发具有优异防污性和优异耐用性的防污涂层。
技术实现思路
本专利技术用以解决上述提到的现有技术的问题并提供了能形成优异的、经久耐用的低表面张カ处理层的表面改性剂，所述处理层能防止湿气或诸如指纹、皮肤油、汗和化妆品等污垢粘附在各种基材，尤其是抗反射膜等光学元件和玻璃的表面上，并且一旦沾上吋，能容易地擦去污垢或湿气。本专利技术的另ー个目的是提供制备能形成优异的低表面张カ层的表面改性剂的方法。本专利技术的再ー个目的是提供能容易地形成优异的低表面张カ层的方法。本专利技术的又ー个目的是提供配备有所述优异的低表面张カ层的光学元件和各种基材。本专利技术的又ー个目的是提供配备有所述优异的低表面张カ层的抗反射光学元件。本专利技术的又ー个目的是提供配备有所述抗反射元件的光学功能性元件。本专利技术的又ー个目的是提供显示器装置，所述显示器装置具有配备有所述光学功能性元件的显示屏表面。本专利技术的又ー个目的是提供本专利技术的化合物在微型制造领域，例如纳米压印(nanoimprinting)中的应用，其在近年已有显著的技术进展,从而实现了精确的脱模。本专利技术的又ー个目的是提供本专利技术的化合物在装置制造中的应用以提供ー种材料和加工方法，使得由于本专利技术的化合物的优异排斥性能从而可以容易地加工宽度非常小的线条(line)。本专利技术的又ー个目的是提供本专利技术的化合物在诸如混凝土、石灰石、花岗岩或大理石等石制品的处理中的应用。本专利技术提供了ー种防尘剂，所述防尘剂含有由通式(A)和/或部分水解产物通式(B)表不的有机娃酮化合物。F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n_ (OCF2)。(CH2) PX (CH2) rSi (X，) 3_a (R1) a (A)在通式(A)中，q是I?3的整数；m、n和o独立地为0?200的整数；p是I或2 ;X是0或者ニ价有机基团；r是2?20的整数,是Cu直链或支化的烃基；a是0?2的整数-X是水解性基团。F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n_ (OCF2)。(CH2) pX (CH2) r (X，) 2_a (R1) aSiO (F- (CF2) q- (OC3F6)ffl- (OC2F4) n- (OCF2)。(CH2) PX (CH2) r (X，) w (R1) aSiO) ZF_ (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n- (OCF2)。(CH2)PX (CH2) JXJh(R1)aSi (B)在通式(B)中，q是I?3的整数；m、n和O独立地为0?200的整数；p是I或2 ;X是0或者ニ价有机基团；r是2?20的整数,是C1J直链或支化的烃基；a是0?2的整数-X是水解性基团；以及当a为0或I吋，z是0?10的整数。此外，本专利技术提供了制备上述表面改性剂的方法。本专利技术提供了使用所述表面改性剂产生低表面张カ的方法。本专利技术提供了通过使用所述表面改性剂得到的低表面张カ的表面。本专利技术提供了配备有含有所述表面改性剂的处理层的光学元件。本专利技术提供了配备有含有所述表面改性剂的处理层的抗反射光学元件。本专利技术提供了含有所述抗反射光学元件的光学功能性元件。本专利技术提供了配备有所述光学功能性元件的显示器装置。本专利技术提供了诸如玻璃等无机基材，所述无机基材具有配备了含有所述表面改性剂的处理层的表面。本专利技术提供了具有带有上述表面的无机基材的汽车和航空玻璃和卫浴用具。本专利技术提供了所述表面改性剂在纳米压印的精确脱模中的应用。本专利技术提供了使用所述表面改性剂容易地制造具有微观结构的装置的方法。【具体实施方式】由于本专利技术的表面改性剂含有特定的有机硅酮化合物，因此当在基材例如各种光学元件(抗反射膜、光学滤镜、光学透镜、眼镜镜片、分光镜、棱镜、镜子等)上使用所述表面改性剂形成处理层时，可以防止诸如指纹、皮肤油、汗、化妆品等污垢或湿气的粘附而不劣化所述光学元件的光学特性，并且，即使粘附上污垢和湿气，也能容易地擦棹，由此使所述处理层具有优异的耐用性。本专利技术的防尘剂含有由通式(A)和/或通式(B)表示的有机硅酮化合物。F- (CF2) q- (OC3F6) ffl- (OC2F4) n_ (OCF2)。(CH2) pX (CH2) rSi (X，) 3_a (R1本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种表面改性剂，所述表面改性剂含有由通式(A)和/或通式(B)表示的有机硅酮化合物：F?(CF2)q?(OC3F6)m?(OC2F4)n?(OCF2)o(CH2)pO(CH2)rSi(X“)3?a(R1)a??(A)其中，q是1～3的整数；m、n和o独立地为0～200的整数，m、n和o的总和为5以上；p是1或2；r是3；R1是C1?22直链或支化的烃基；a是0～2的整数；X“是水解性基团；C3F6不是支链的亚丙基；和F?(CF2)q?(OC3F6)m?(OC2F4)n?(OCF2)o(CH2)pO(CH2)r(X“)2?a(R1)aSiO(F?(CF2)q?(OC3F6)m?(OC2F4)n?(OCF2)o(CH2)pO(CH2)r(X“)1?a(R1)aSiO)zF?(CF2)q?(OC3F6)m?(OC2F4)n?(OCF2)o(CH2)pO(CH2)r(X“)2?a(R1)aSi??(B)其中，q是1～3的整数；m、n和o独立地为0～200的整数，m、n和o的总和为5以上；p是1或2；r是3；R1是C1?22直链或支化的烃基；a是0～2的整数；X“是水解性基团；以及当a为0或1时，z是0～10的整数；C3F6不是支链的亚丙基，其中所述有机硅酮化合物通过由以下通式(C)表示的化合物之间的氢化硅烷化反应制备：F?(CF2)q?(OC3F6)m?(OC2F4)n?(OCF2)o(CH2)pOCH2CH=CH2??(C)其中，q是1～3的整数；m、n和o独立地为0～200的整数，m、n和o的总和为5以上；p是1或2；C3F6不是支链的亚丙基，并且通过使用所述表面改性剂得到的处理表面具有不超过5°的水滑动角。...
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：伊丹康雄，桝谷哲也，彼得·C·胡佩费尔德，唐·李·克莱尔，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，道康宁公司，
类型：发明
国别省市：
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