光栅机械刻划工艺试验装置制造方法及图纸

光栅机械刻划工艺试验装置属于光栅工艺技术领域。现有技术无法调节刻划刀具装夹角度，无法调整工件水平度。在本实用新型专利技术中，龙门悬架安装在底座上，刀架刚性悬挂在龙门悬架横梁中部；刻划刀具安装在刀架下端；定位平台与刀架在Z方向上对应并安装在底座上；定位平台中的直线位移平台由X向平移平台、Y向平移平台、Z向平移平台三者叠加连接而成；龙门悬架的两根立柱竖直固定在底座上，横梁两端与两根立柱内侧通过燕尾槽连接；定位平台中的弧线位移平台由X轴弧线位移平台与Y轴弧线位移平台叠加而成；直线位移平台与弧线位移平台叠加连接在一起；XYZ三向微力测力仪位于定位平台上部；刀架中的X轴调节座、Y轴调节座、Z轴调节座三者叠加连接在一起。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

Grating mechanical scribing process test device

The utility model relates to a grating mechanical scribing process test device, which belongs to the technical field of grating technology. The existing technology can not adjust the clamping angle of the cutting tool, and can not adjust the levelness of the workpiece. In the utility model, Longmen suspension mounted on the base, knife rigid suspension in central Longmen suspension beam; ruling tool installed in the lower turret; positioning platform and corresponding tool in the Z direction and is installed on the base; the linear displacement platform positioning in the platform from X to Y translation platform, to translation platform, to Z the translation platform consists of three parts which are connected; the two columns of Longmen vertical suspension fixed on the base, the two ends of the beam and two columns connected with the inner side through a dovetail groove; arc displacement platform positioning platform by the X axis and Y axis arc arc displacement platform line displacement platform superposed; superposition linear displacement platform and arc displacement platform connection together; XYZ three micro force dynamometer is located in the upper X axis tool positioning platform; the adjusting seat, Y axis and Z axis adjusting seat adjusting seat three superimposed together.

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】光栅机械刻划工艺试验装置属于光栅工艺
。现有技术无法调节刻划刀具装夹角度，无法调整工件水平度。在本技术中，龙门悬架安装在底座上，刀架刚性悬挂在龙门悬架横梁中部；刻划刀具安装在刀架下端；定位平台与刀架在Z方向上对应并安装在底座上；定位平台中的直线位移平台由X向平移平台、Y向平移平台、Z向平移平台三者叠加连接而成；龙门悬架的两根立柱竖直固定在底座上，横梁两端与两根立柱内侧通过燕尾槽连接；定位平台中的弧线位移平台由X轴弧线位移平台与Y轴弧线位移平台叠加而成；直线位移平台与弧线位移平台叠加连接在一起；XYZ三向微力测力仪位于定位平台上部；刀架中的X轴调节座、Y轴调节座、Z轴调节座三者叠加连接在一起。【专利说明】光栅机械刻划工艺试验装置
本技术涉及一种光栅机械刻划工艺试验装置，属于光栅工艺
。
技术介绍
衍射光栅作为光谱仪器中的核心器件，在工业、国防、科研等领域得到了广泛的应用。相对于复制和全息离子刻蚀来说，光栅机械刻划是一种适合于大面积、低刻线密度原刻衍射光栅的制作工艺，该工艺在实现大面积刻划的同时应当具有较高的刻划精度，从而提高光栅衍射效率。一个与所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光栅机械刻划工艺试验装置，龙门悬架安装在底座（1）上，刀架（2）刚性悬挂在龙门悬架横梁（3）中部；刻划刀具（4）安装在刀架（2）下端；定位平台与刀架（2）在Z方向上对应并安装在底座（1）上；定位平台中的直线位移平台（5）由X向平移平台、Y向平移平台、Z向平移平台（6）三者叠加连接而成；其特征在于，龙门悬架的两根立柱（7）竖直固定在底座（1）上，横梁（3）两端与两根立柱（7）内侧通过燕尾槽连接；定位平台中的弧线位移平台（8）由X轴弧线位移平台与Y轴弧线位移平台叠加而成；直线位移平台（5）与弧线位移平台（8）叠加连接在一起；XYZ三向微力测力仪（9）位于定位平台上部；刀架（2）中的X轴调节座、...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：石广丰，史国权，宋林森，王磊，肖为，吕洋洋，蔡宏彬，丁健生，胡明亮，周锐奇，
申请(专利权)人：长春理工大学，
类型：实用新型
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