调节激光频率的方法及激光频率调节系统技术方案

本发明专利技术提供一种调节激光频率的方法及激光频率调节系统，该调节激光频率的方法包括：步骤1、提供一原激光脉冲（10）；步骤2、利用分光镜（20）将原激光脉冲（10）分成第一子激光脉冲（11）和第二子激光脉冲（12）；步骤3、利用数个反射镜（30）将第一子激光脉冲（11）反射至分光镜（20）上第二子激光脉冲（12）的出射处，并在第一子激光脉冲（11）传输过程中，使第一子激光脉冲（11）通过一光程延长装置（40）；步骤4、第一子激光脉冲（11）与第二子激光脉冲（12）相叠加，并利用补偿片（50）调节叠加形成的激光脉冲（13）的传输方向。

Method for adjusting laser frequency and laser frequency regulating system

The present invention provides a method for adjusting the frequency of the laser and the laser frequency control system, including the method of adjusting the frequency of the laser: Step 1, provide the original laser pulse (10); step 2, using spectroscope (20) the original laser pulse (10) into a first laser pulse (11) and second sub pulse laser (12); step 3, using a number of mirrors (30) the first sub laser pulse reflection (11) to (20) second spectroscope laser pulse (12) at the exit, and the first laser pulse (11) in the process of transmission, the first laser pulse (11) by a path extension device (40); step 4, the first sub laser pulse (11) and second (12) laser pulses are superposed, and the use of compensating plate (50) adjustable laser pulse superimposed by the transmission direction (13).

【技术实现步骤摘要】
调节激光频率的方法及激光频率调节系统
本专利技术涉及平板显示技术，尤其涉及一种调节激光频率的方法及激光频率调节系统。
技术介绍
近年来显示技术发展很快，平板显示器以其完全不同的显示和制造技术使之同传统的视频图像显示器有很大的差别。传统的视频图像显示器主要为阴极射线管CRT (Cathode ray tubes);而平板显示器与之的主要区别在于重量和体积(厚度)方面的变化，通常平板显示器的厚度不超过10cm，当然还有其他的不同，如显示原理、制造材料、工艺以及视频图像显示驱动方面的各项技术等。平板显示器具有完全平面化、轻、薄、省电等特点，并朝着高分辨率、低功耗、高集成度的方向发展，但传统的非晶硅受限于自身的特性无法满足上述要求，作为非晶硅的最佳替代者——多晶硅能够满足平板显示器未来发展的需求，因此低温多晶硅(LTPS)显示技术成为显示领域的宠儿。作为低温多晶硅显示技术的核心工艺环节，多晶硅的制作方式及材料特性决定着显示器的性能。目前已知的多晶硅制备方式包括:低压化学气相沉积(LPCVD)、固相结晶、金属诱导和激光退火等。目前业界应用最为广泛的制备方式是激光退火工艺，通过激光产生的高温将非晶硅熔融重结晶成多晶硅。虽然通过调节激光的参数可以使得结晶效果得到优化，但由于受机台规格限制，可以调制的参数及其范围有限，比如激光频率，使得我们无法对多晶硅的结晶过程及效果进行更深入的研究。如图1所示，其为现有的激光退火工艺中激光脉冲光路示意图，图中的原激光脉冲100经过一分光镜200后将原激光脉冲100分裂成两个子激光脉冲101、102，子激光脉冲101、102的能量均为原激光脉冲100的50%，其中，子激光脉冲101经过四个反光镜300反射后传输回至分光镜200处，与子激光脉冲102相叠加，由于经过分光镜200后的子激光脉冲101、102在垂直方向上存在一段下移距离，因此，采用补偿片400将叠加后的激光脉冲103调节至原始的垂直位置。在该过程中，相较于子激光脉冲102，子激光脉冲101传输的距离要长，所以会与子激光脉冲102存在时间延迟，子激光脉冲101和子激光脉冲102最终叠加在一起形成上图所示的激光脉冲104。由于受机台规格限制，如图1所示的四个反光镜300的位置全部固定，无法再进行调节，最终所形成的激光脉冲104为固定形式，无法对多晶硅的结晶过程及效果进行更进一步的改善。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种调节激光频率的方法，通过将原激光脉冲分成两子激光脉冲，并在其中一子激光脉冲的原本光路中增加光程延长装置来进一步增大两子激光脉冲的光程差，以成为两个明显分立的子激光脉冲，最后以两者的叠加来实现激光的频率调节。本专利技术的另一目的在于提供一种激光频率调节系统，通过增加光程延长装置来增加子激光脉冲的光程，可以有效地拓宽激光脉冲的频率范围，并且在相同的时间内，基板可以接受更多的激光照射，可以进一步完善多晶硅的结晶效果。为实现上述目的，本专利技术提供一种调节激光频率的方法，包括以下步骤:步骤1、提供一原激光脉冲；步骤2、利用分光镜将该原激光脉冲分成分别沿两个方向传输的第一子激光脉冲和第二子激光脉冲；步骤3、利用数个反射镜将第一子激光脉冲反射至分光镜上第二子激光脉冲的出射处，并在该第一子激光脉冲传输过程中，使该第一子激光脉冲通过一光程延长装置；步骤4、所述第一子激光脉冲经分光镜反射后与第二子激光脉冲具有相同的传输方向，并与第二子激光脉冲相叠加，并利用补偿片对叠加形成的激光脉冲的传输方向进行调节。所述第一子激光脉冲为原激光脉冲在分光镜上部分反射而形成，所述第二子激光脉冲为原激光脉冲部分穿过该分光镜出射而形成，通过调节分光镜的反射系数来调节第一子激光脉冲和第二子激光脉冲占原激光脉冲的能量比。所述第一子激光脉冲的能量为原激光脉冲的能量的50%，所述第二子激光脉冲的能量为原激光脉冲的能量的50%。所述光程延长装置包括:光学晶体及设于所述光学晶体两端的高透光率防反射层，所述第一子激光脉冲从光学晶体一端的高透光率防反射层入射，并从光学晶体另一端的高透光率防反射层出射。所述光学晶体为存在电光效应的光学晶体，所述光学晶体对应波长为308nm的激光时的折射率大于3，所述高透光率防反射层由MgF2或者Al2O3制成。所述反射镜的数量为四个，分别为第一至第四反射镜，所述第一子激光脉冲从分光镜出射后经过第一反射镜反射后传输至第三反射镜，经过第三反射镜反射后传输至所述光程延长装置，并穿过该光程延长装置后传输至第二反射镜，经过第二反射镜反射后传输至第四反射镜，经过第四反射镜反射后以一定角度传输至分光镜上第二子激光脉冲的出射处，以与第二子激光脉冲相叠加。所述第一子激光脉冲与第二子激光脉冲叠加形成的激光脉冲经补偿片调节后，与原激光脉冲具有相同的传输方向，且处于同一水平高度上。本专利技术还提供一种激光频率调节系统，包括:一入射口、一分光镜、数个反射镜、一光程延长装置、一补偿片及一出射口 ；该分光镜相对该入射口设置，该补偿片相对该出射口设置；一原激光脉冲从该入射口入射至分光镜处，经分光镜分成沿两个方向传输的第一子激光脉冲和第二子激光脉冲，所述数个反射镜将该第一子激光脉冲以一定角度反射至该分光镜上第二子激光脉冲出射处，并与第二子激光脉冲叠加后经过补偿片调节传输方向后从该出射口射出，所述光程延长装置设于该第一子激光脉冲的传输光路中。所述第一子激光脉冲为原激光脉冲在分光镜上部分反射而形成，所述第二子激光脉冲为原激光脉冲部分穿过该分光镜出射而形成，通过调节分光镜的反射系数来调节第一子激光脉冲和第二子激光脉冲占原激光脉冲的能量比，所述第一子激光脉冲的能量为原激光脉冲的能量的50%，所述第二子激光脉冲的能量为原激光脉冲的能量的50% ；所述光程延长装置包括:光学晶体及设于所述光学晶体两端的高透光率防反射层，所述第一子激光脉冲从光学晶体一端的高透光率防反射层入射，并从光学晶体另一端的高透光率防反射层出射，所述光学晶体为存在电光效应的光学晶体，所述光学晶体对应波长为308nm的激光时的折射率大于3，所述高透光率防反射层由MgF2或者Al2O3制成。所述反射镜的数量为四个，分别为第一至第四反射镜，所述第一子激光脉冲从分光镜出射后经过第一反射镜反射后传输至第三反射镜，经过第三反射镜反射后传输至所述光程延长装置，并穿过该光程延长装置后传输至第二反射镜，经过第二反射镜反射后传输至第四反射镜，经过第四反射镜反射后以一定角度传输至分光镜上第二子激光脉冲的出射处，以与第二子激光脉冲相叠加。本专利技术的有益效果:本专利技术的调节激光频率的方法及激光频率调节系统，通过将原激光脉冲分成两子激光脉冲，并在其中一子激光脉冲的原本光路中增加光程延长装置来进一步增大两子激光脉冲的光程差，以成为两个明显分立的子激光脉冲，最后以两者的叠加来实现激光的频率调节；同时，由于光程延长装置的电光效应是一种快速低功耗的光学效应，可以通过调制电压的波形实现对两子激光脉冲时间延迟的实时调节，进而实时动态的调节两子激光脉冲之间的时间延迟，因此，本专利技术可以有效的拓宽激光的频率范围，并且在相同的时间内，基板可以接受更多的激光照射，可以进一步完善多晶硅的结晶效果。为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本发本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种调节激光频率的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1、提供一原激光脉冲（10）；步骤2、利用分光镜（20）将该原激光脉冲（10）分成分别沿两个方向传输的第一子激光脉冲（11）和第二子激光脉冲（12）；步骤3、利用数个反射镜（30）将第一子激光脉冲（11）反射至分光镜（20）上第二子激光脉冲（12）的出射处，并在该第一子激光脉冲（11）传输过程中，使该第一子激光脉冲（11）通过一光程延长装置（40）；步骤4、所述第一子激光脉冲（11）经分光镜（20）反射后与第二子激光脉冲（12）具有相同的传输方向，并与第二子激光脉冲（12）相叠加，并利用补偿片（50）对叠加形成的激光脉冲（13）的传输方向进行调节。

【技术特征摘要】
1.一种调节激光频率的方法，其特征在于，包括以下步骤: 步骤1、提供一原激光脉冲(10)； 步骤2、利用分光镜(20)将该原激光脉冲(10)分成分别沿两个方向传输的第一子激光脉冲(11)和第二子激光脉冲(12 ); 步骤3、利用数个反射镜(30)将第一子激光脉冲(11)反射至分光镜(20)上第二子激光脉冲(12)的出射处，并在该第一子激光脉冲(11)传输过程中，使该第一子激光脉冲(11)通过一光程延长装置(40)； 步骤4、所述第一子激光脉冲(11)经分光镜(20)反射后与第二子激光脉冲(12)具有相同的传输方向，并与第二子激光脉冲(12)相叠加，并利用补偿片(50)对叠加形成的激光脉冲(13)的传输方向进行调节。2.如权利要求1所述的调节激光频率的方法，其特征在于，所述第一子激光脉冲(11)为原激光脉冲(10)在分光镜(20)上部分反射而形成，所述第二子激光脉冲(12)为原激光脉冲(10)部分穿过该分光镜(20)出射而形成，通过调节分光镜(20)的反射系数来调节第一子激光脉冲(11)和第二子激光脉冲(12)占原激光脉冲(10)的能量比。3.如权利要求2所述的调节激光频率的方法，其特征在于，所述第一子激光脉冲(11)的能量为原激光脉冲(10)的能量的50%，所述第二子激光脉冲(12)的能量为原激光脉冲(10)的能量的50%。4.如权利要求1所述的调节激光频率的方法，其特征在于，所述光程延长装置(40)包括:光学晶体(42)及设于所述光学晶体(42)两端的高透光率防反射层(44)，所述第一子激光脉冲(11)从光学晶体(42)—端的高透光率防反射层(44)入射，并从光学晶体(42)另一端的高透光率防反射层(42)出射。5.如权利要求4所述的调节激光频率的方法，其特征在于，所述光学晶体(42)为存在电光效应的光学晶体，所述光学晶体(42)对应波长为308nm的激光时的折射率大于3,所述高透光率防反射层(44)由MgF2或者Al2O3制成。6.如权利要求1所述的调节激光频率的方法，其特征在于，所述反射镜(30)的数量为四个，分别为第一至第四反射镜(32、34、36、38)，所述第一子激光脉冲(11)从分光镜(20)出射后经过第一反射镜(32)反射后传输至第三反射镜(36)，经过第三反射镜(36)反射后传输至所述光程延长装置(40)，并穿过该光程延长装置(40)后传输至第二反射镜(34)，经过第二反射镜(34)反射后传输至第四反射镜(38)，经过第四反射镜(38)反射后以一定角度传输至分光镜(20)上第二子激光脉冲(12)的出射处，以与第二子激光脉冲(12)相叠加。7.如权利要求1所述的调节激光频率的方法，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：张翔，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：