The invention discloses a method for purification of silicon dioxide, which comprises the following steps: 1) 250~45 micron silicon dioxide, water, hydrochloric acid, fluoride, mineralizer amount added to the stainless steel container with polytetrafluoroethylene lining, at 90~150 DEG C after 24~36 hours of treatment, cooling to room temperature; 2) the mixture was filtered after cooling. With lime water treatment and recovery of the filtrate, then using deionized water to neutral cleaning and drying to obtain purified silica. The method and the process of the invention are simple and suitable for industrial production, and the purified silica can meet the actual needs of the production of special quartz glass products in the semiconductor and photovoltaic industries. ?
【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于无机材料
，涉及。
技术介绍
随着半导体和光伏产业的迅速发展，为满足半导体和光伏产业用特种石英玻璃制品的实际需要，高纯二氧化硅的制备技术越来越受到关注。现有技术中，二氧化硅的纯度大多依赖于石英矿自身的品质，很难同时兼顾到锂、钠、钾、铝、钛几种元素同时满足实际要求。有关二氧化娃中裡、纳、钟、招、钦等杂质兀素的除去方法有待不断完善。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本专利技术所要解决的技术问题是提供一种二氧化硅提纯方法。该方法工艺简单，能除去二氧化硅中锂、钠、钾、铝、钛等杂质元素。为解决上述技术问题，本专利技术采用如下技术方案: ，依次包括以下步骤: 1)将二氧化硅、水、分析纯盐酸、分析纯氟化物、分析纯矿化剂加入到内衬聚四氟乙烯的反应容器中，盐酸的质量为二氧化硅的10~40%;氟化物的质量为二氧化硅的1~10%;矿化剂的质量为二氧化硅的0.5~10% ;水的用量为二氧化硅质量的10-20% ;盐酸浓度l(T25wt% ； 2)将混合物在密闭容器中于90~l50°C下反应24~36小时后，冷却、过滤、去离子水洗至中性、干燥即得到提纯的二氧化硅。所述氟化物为氟化铵或氟化钠或氟化钾；矿化剂为有机膦酸或有机多膦酸。作为优选，步骤1)中二氧化硅的尺寸为250~45微米。与现有技术相比，本专利技术具有以下优点和有益效果: 1、本专利技术方法工艺简单、条件温和，适用于工业化生产； 2、采用本专利技术方法能除去二氧化硅中锂、钠、钾、铝、钛等微量杂质元素，使二氧化硅中锂、钠、钾、铝、钛元素的含量满足实际使用要求； 3、采用本专利...
【技术保护点】
一种二氧化硅的提纯方法，其特征在于，包括以下步骤：1）将二氧化硅、水、分析纯盐酸、分析纯氟化物、分析纯矿化剂加入到内衬聚四氟乙烯的反应容器中，盐酸的质量为二氧化硅的10?~?40%；氟化物的质量为二氧化硅的1~10%；矿化剂的质量为二氧化硅的0.5~10%；水的用量为二氧化硅质量的10~20%；盐酸浓度10~25wt?%；2）将混合物在密闭容器中于90~150℃下反应24~36小时后，冷却、过滤、去离子水洗至中性、干燥即得到提纯的二氧化硅。
【技术特征摘要】
1.一种二氧化硅的提纯方法，其特征在于，包括以下步骤: . 1)将二氧化硅、水、分析纯盐酸、分析纯氟化物、分析纯矿化剂加入到内衬聚四氟乙烯的反应容器中，盐酸的质量为二氧化硅的10~40%;氟化物的质量为二氧化硅的f 10%;矿化剂的质量为二氧化硅的0.5^10% ;水的用量为二氧化硅质量的10-20% ;盐酸浓度l(T25wt% ； . 2)将混合物在密...
【专利技术属性】
技术研发人员：袁良杰，艾常春，袁荃，韩畅，崔东明，
申请(专利权)人：武汉大学，
类型：发明
国别省市：
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