电感耦合等离子处理装置的罩固定器具和罩固定装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种电感耦合等离子处理装置的罩固定器具和罩固定装置。在电感耦合等离子处理装置中抑制覆盖窗构件的下表面的罩的破损和微粒的产生，而且能够容易地装卸罩。电感耦合等离子处理装置的电介体罩包括具有下表面以及与该下表面连续的侧端的被支承部。电介体罩固定器具包括：支承部，其与电介体罩的被支承部的下表面抵接，以被支承部夹在其与作为支承电介体壁的支承构件的支承梁和电介体壁中的至少一个之间的方式支承被支承部；被固定部，其与该支承部相连接，其一部分被配置在被支承部的侧端的侧方，以其与支承梁的位置关系不发生变化的方式被固定。

【技术实现步骤摘要】
电感耦合等离子处理装置的罩固定装置本申请是申请日为2010年3月25日、申请号为2010101411510、专利技术名称为“电感耦合等离子处理装置的罩固定器具和罩固定装置”的申请的分案申请。
本专利技术涉及在电感耦合等离子处理装置中用于对将构成处理室顶板部分的窗构件的下表面覆盖的罩进行固定的罩固定装置。
技术介绍
在FPD(平板显示器)的制造工序中，对FPD用的玻璃基板进行等离子蚀刻、等离子灰化、等离子成膜等各种等离子处理。作为进行这样的等离子处理的装置，公知有能够产生高密度等离子体的电感耦合等离子(ICP)处理装置。电感耦合等离子处理装置包括：处理室，其被气密地保持，且能对作为被处理体的基板进行等离子处理；配置在处理室外部的高频天线。处理室具有构成处理室的顶板部分的、由电介体等材质构成的窗构件，高频天线被配置在窗构件的上方。在该电感耦合等离子处理装置中，通过对高频天线施加高频电力，隔着窗构件在处理室内形成感应电场，利用该感应电场将被导入到处理室内的处理气体转化为等离子体，使用该等离子体来对基板进行规定的等离子处理。在电感耦合等离子处理装置中，在窗构件的下表面露出到处理室中时，该窗构本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电感耦合等离子处理装置的罩固定器具，该电感耦合等离子处理装置包括：处理室，其具有构成顶板部分的窗构件，用于进行等离子处理；高频天线，其被配置在上述窗构件的上方，用于在上述处理室内形成感应电场；支承构件，其用于支承上述窗构件；罩，用于覆盖上述窗构件的下表面，上述罩固定器具用于上述电感耦合等离子处理装置，用于固定上述罩，其特征在于，包括：支承部，其用于对具有作为上述罩的一部分的下表面的被支承部进行支承；被固定部，其被固定于上述支承构件，上述罩包括罩主体，该罩主体具有下表面和上表面，构成罩的主要部分，上述被支承部被配置在上述罩主体的上表面的上方；上述支承部被配置在上述被支承部的下表面与上述罩主体...

【技术特征摘要】
1.一种电感耦合等离子处理装置的罩固定装置，该电感耦合等离子处理装置包括：处理室，其具有构成顶板部分的窗构件，用于进行等离子处理；高频天线，其被配置在上述窗构件的上方，用于在上述处理室内形成感应电场；支承构件，用于支承上述窗构件；罩，用于覆盖上述窗构件的下表面以及上述支承构件的下表面的除存在有上述罩固定装置的部位以外的部分，上述罩固定装置用于上述电感耦合等离子处理装置，用于固定上述罩，其特征在于，上述罩固定装置包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐藤亮，齐藤均，天野健次，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：