高分子树脂膜及其制造方法技术

本发明专利技术公开了高分子树脂膜及其制造方法，是在利用溶液制膜法制造的光学用透明膜、照片感光材料用支持体膜等中，即使在膜表面涂布各种功能层，也不会产生涂布不均现象。这种高分子树脂膜是采用溶液制膜法制造的，其特征在于膜片纵向周期厚度不均间距ａ［ｃｍ］、厚度不均率ｄ［％］满足下式（１）：ｄ≤０．４６ａ↑［３］－０．９１ａ↑［２］＋０．６０ａ＋１．０１（１）（但０．２＜ａ＜３）。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及能用于偏振片保护膜等的光学用透明膜、照片感光材料用支持体膜等的，更详细地说，涉及在膜表面涂布功能层时能涂布均匀的。
技术介绍
一般用作光学用透明膜、照片感光材料用支持体膜等的膜，使用的是三醋酯纤维素膜等，这种三醋酯纤维素膜等是用溶液制膜法制造的。溶液制膜法是把有机溶剂中溶解的聚酯溶液从口模倾倒到支持体上的同时，由设置在口模傍的减压室把倾倒带状物(口模吐出口至支持体接着面间的液膜)紧靠在支持体上。作为这种溶液制膜法，例如，特公昭49-36946号公报中提案的液体组成物浇注法，为了防止空气伴入，设置带有两个吸引小室的减压室且使液体组成物流与辊紧靠，特公昭62-38133号公报及特公昭63-57222号公报中，提出了利用隔离壁处设置的2个真空带区能使端部液滴稳定的输送膜片均压装置，特开平5-86212号公报等中提出通过使用特定比例的易溶剂和难溶剂原液防止产生侧针的倾倒方法。但是，上述现有技术中采用溶液制膜法制造的高分子树脂膜由于减压室内部的气柱振动、减压吸管的气柱振动、鼓风机振动传送的减压室振动等气压振动及机械振动导致振动干扰，倾倒带状物周期性振动，膜纵向产生微小的周期段状厚度不均。特别是近年来液晶显示装置(以下称为LCD)的薄型化发展，要求各个部分都要薄膜化，偏振片用保护膜更要薄膜化，薄膜化使溶液制膜法的水平效果降低，明显表现出各种厚度不均。以光用透明膜为例，虽然涂布有能使外层坚硬或防反射功能的抗性层，但由于支持体上厚度不均会导致涂布不均而降低光用膜的外观价值与功能，所以，LCD等质量上存在很大问题。同样，在照片感光材料用支持体中乳剂涂布也存在同样的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于解决上述问题，提供即使在溶液制膜法制造膜上涂布各种功能层也不会产生涂布不均的。本专利技术的高分子树脂膜，在周期性纵向厚度不均的规定范围内，当把厚度不均间隔及厚度不均间的关系确定在规定范围时，即使对高分子树脂膜进行涂布，也能看到良好的外观质量。即，本专利技术的高分子树脂膜是采用溶液制膜法制备的，其特征在于膜片纵向厚度不均间距a、厚度不均率d满足下式(1)d≤0.46a3－0.91a2＋0.60a＋1.01(1)(但0.2＜a＜3)本专利技术把倾倒带状物的伸缩率、倾倒速度及伸缩频率间的关系限定在规定区域时，即使对高分子树脂膜进行涂布也能表现出良好的外观质量。本专利技术的高分子树脂膜制造方法是从口模中把溶解在有机溶剂中的高分子树脂溶液倾倒在支持体上来制造膜，其特征在于倾倒速度v、伸缩频率f及伸缩率e满足下式(3)e≤0.46(v/f)3－0.91(v/f)2＋0.60(v/f)＋1.01(3)(但0.2＜(v/f)＜3)本专利技术针对溶液制膜法制造的膜在纵向上产生周期厚度不均现象，通过把不均间距与厚度不均率的适当关系设定在规定范围，即使对该膜进行涂布，也能得到良好的外观质量。附图说明图1表示厚度不均率与厚度不均间距关系，以及与涂布不均识认率关系的示图；图2表示倾倒速度及伸缩频率关系，以及与涂布不均识认率关系的示图；图3是本专利技术高分子树脂膜制造方法中可用的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图4是本专利技术高分子树脂膜制造方法中可用的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图5是本专利技术高分子树脂膜制造方法中可用的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图6是本专利技术高分子树脂膜制造方法中可用的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图7是本专利技术高分子树脂膜制造方法中可用的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图8是本专利技术高分子树脂膜制造方法中可用的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图9是设有挡风板的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图10是设有挡风板的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图11是设有挡风板的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图12是设有挡风板的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图； 图13是设有挡风板的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图14是设有挡风板的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图15是设有挡风区的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图16是设有挡风区的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图17是设有挡风区的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图18是设有挡风区的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图19是设有挡风箱的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图20是设有挡风箱的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图21是设有挡风箱的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图22是设有挡风箱的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图23是设有挡风片的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图24是设有挡风片的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图25是设有挡风片的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图26是设有挡风片的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图27是设有挡风板的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图28是设有挡风板的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图29是设有挡风区的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图30是设有挡风箱的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图31是设有挡风箱的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图32是设有挡风片的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图；图33是设有挡风片的溶液制膜装置的倾倒口模部模式图。具体实施例方式在本专利技术的高分子树脂膜，膜片纵向厚度不均间距a是为0.2-0.3cm的段状厚度不均，厚度不均间距a和厚度不均率d满足下式(1)d≤0.46a3－0.91a2＋0.60a＋1.01(1)最好是满足下式(2)d≤0.19a3－0.38a2＋0.25a＋0.42(2)即，本专利技术者根据膜片纵向周期厚度不均的间距a和厚度不均率d的关系以及涂布不均可视明显程度得出图1所示的结果。在图1中，曲线a表示上式(1)，曲线b表示上式(2)，在曲线a以上区域是涂布不均及可见的区域，曲线a和曲线b间的区域是涂布不均可见性低的区域，曲线b下部区域是看不见涂布不均的区域。这种涂布不均的明显与否是根据目视观察进行断定的。厚度不均率是厚度不均凸凹的最大值和最小值之差除以膜的平均厚度所得数值。厚度不均的间距及厚度不均率的测定是连续测定纵向膜厚度，可以采用从其记录纸上读取周期厚度不均的间距和厚度不均的最大值、最小值及平均值的方法，或采用读取厚度变动值频率分析及最大峰值的方法。厚度连续测定的方法可以根据接触式连续厚度计或非接触式连续厚度计等进行。把厚度不均间距及厚度不均设定在上述规定范围内时，可以通过抑制溶液送液脉动量、倾倒部的机械振动、支持体的速度不均、口模口部吐出带状物的静压变动及动压变动并设定适当的带状物等来达到。膜片纵长厚度不均间距低于0.2cm时，厚度不均率可以低于2％，最好低于1％。当厚度不均率超过2％时，涂布不均明显可见。膜片纵长厚度不均间距大于3cm时，厚度不均率可以低于7％，最好低于2.8％。当厚度不均率超过7％时，涂布不均明显可见。根据本专利技术的高分子树脂膜制造方法，用伸缩频率除倾倒速度所得值在0.2-3cm范围内时，倾倒速度v、伸缩频率f及伸缩率e满足下式(3)e≤0.46(v/f)3－0.91(v/f)2＋0.60(v/f)＋1.01(3)最好满足下式(4)e≤0.19(v/f)3－0.38(v/f)2＋0.25(v/f)＋0.42(4)即，本专利技术者根据倾倒伸缩率e、倾倒速度v及伸缩频率f和得出图2所示的结果。在图2本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高分子树脂膜，是采用溶液制膜法制造的，其特征在于膜片纵向周期厚度不均间距ａ［ｃｍ］、厚度不均率ｄ［％］满足下式（１），但０．２＜ａ＜３： ｄ≤０．４６ａ↑［３］－０．９１ａ↑［２］＋０．６０ａ＋１．０１ （１）。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：片井幸祐，辻本忠宏，中村敏和，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]