公差环及公差环的制造方法技术

技术编号:9521279 阅读:160 留言:0更新日期:2014-01-01 18:45
本发明专利技术提供一种公差环,该公差环(8)呈沿着规定方向大致环绕一周的环状,且设有多个凸部(81),其中,通过使环绕方向上的端部(82、83)的曲率半径比环绕方向上的除端部(82、83)以外的部分的曲率半径小,能够将压入对象容易地压入。另外,当将公差环(8)插入滑架的连结部时,能够不损伤连结部的壁面地插入。因此,能够抑制因公差环插入带来的污染物的产生。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供一种公差环,该公差环(8)呈沿着规定方向大致环绕一周的环状,且设有多个凸部(81),其中,通过使环绕方向上的端部(82、83)的曲率半径比环绕方向上的除端部(82、83)以外的部分的曲率半径小,能够将压入对象容易地压入。另外,当将公差环(8)插入滑架的连结部时,能够不损伤连结部的壁面地插入。因此,能够抑制因公差环插入带来的污染物的产生。【专利说明】
本专利技术涉及在硬盘装置等中使用的。
技术介绍
一直以来,在进行计算机等的信息处理的机器中使用有硬盘装置。直到近年来,该硬盘装置不仅只是作为计算机的外部存储装置,还能够搭载于电视机、摄像机等家电产品及汽车用的电子仪器类。图14所示的现有的硬盘装置200在外壳主体201内收纳有驱动机构。驱动机构具有:作为记录媒介的硬盘202、驱动硬盘202旋转的主轴203 (该主轴借助未图示的马达而旋转)、进行向硬盘202的信息记录及信息读出的磁头204、支承磁头204且在硬盘202的表面上转动的滑架205、使滑架205精密地转动而控制磁头204的扫描的VCM(Voice CoilMotor) 206、固定于外壳主体201且将滑架205连结的枢轴207。需要说明的是,枢轴207呈例如大致柱状,且具有轴承的结构。滑架205以枢轴207的中心为中心轴而在硬盘202的表面上进行转动。此时,滑架205与枢轴207之间的固定使用例如公差环。滑架205固定于枢轴207,由此防止基于VCM206的滑架205的转动所产生的动力传递到外壳主体201。公差环呈使平板状的构件沿着规定方向大致环绕一周的环状。在将该公差环插入滑架205侧的开口之后,向公差环的内部压入枢轴207。作为上述的公差环,公开有隆起接触表面呈凸形状的公差环(例如,参照专利文献1、2)。另外,公开有外周面侧呈波形形状的公差环(例如,参照专利文献3、4)。对于专利文献I?4所示的公差环,隆起接触表面或波形形状的突出部分压接于滑架205或枢轴207中的任一方的侧面,从而对滑架205与枢轴207之间进行固定。在先技术文献专利文献专利文献1:日本特开平5-205413号公报专利文献2:日本特开2003-522912号公报专利文献3:日本特开2002-130310号公报专利文献4:日本特开2007-305268号公报专利技术概要专利技术要解决的课题专利文献I?4所示的现有的公差环的沿着环绕方向的形状能够呈与滑架侧的开口大致相等的大致圆形地弹性变形。然而,实际上,从组装时的操作方面考虑,需要公差环保持在滑架内,因此公差环的曲率半径设计得比滑架的开口的曲率半径大。另外,从制造方面考虑,公差环的端部侧打开,公差环的端部的曲率半径有时比滑架的开口的曲率半径大。由此,当插入滑架的开口时,弹性变形后的公差环的沿着环绕方向的形状呈椭圆形状。此时,椭圆的长径比滑架的开口的直径大,担心在将公差环插入滑架的开口时擦伤滑架的侧面。其结果是,公差环擦伤滑架的孔的内部,存在成为污染物的产生原因的问题。另外,椭圆的短径减小为相对于枢轴的半径的压入量以上,因此存在难以向公差环的内部压入枢轴这样的问题。
技术实现思路
本专利技术鉴于上述情况而完成,其目的在于提供一种能够将压入对象容易地压入、且还能够抑制污染物的产生的。解决方案为了解决上述课题而达成目的,本专利技术所涉及的公差环是呈沿着规定方向大致环绕一周的环状且设有多个凸部的公差环,其特征在于,环绕方向上的端部的曲率半径比所述环绕方向上的除所述端部以外的部分的曲率半径小。另外,本专利技术所涉及的公差环在上述专利技术的基础上,其特征在于,曲率半径随着从除所述端部以外的部分朝向所述端部的方向而连续性地变小。另外,本专利技术所涉及的公差环在上述专利技术的基础上,其特征在于,所述多个凸部沿着所述环绕方向配置,沿着所述环绕方向配置的所述凸部中的、配置成一列的所述凸部的个数为偶数。另外,本专利技术所涉及的公差环在上述专利技术的基础上,其特征在于,所述配置成一列的所述凸部的个数为3的倍数。另外,本专利技术所涉及的公差环的制造方法是配置于插入对象的构件之间且对该构件之间进行固定的公差环的制造方法,其特征在于,所述公差环的制造方法包括:外形塑造步骤,在该外形塑造步骤中,通过将依次传送的带状的母材塑造成由支承座连结的外形来成形基材的外形;成形步骤,在该成形步骤中,对于由所述外形塑造步骤成形出的基材成形凸部;弯曲步骤,在该弯曲步骤中,以成形有所述凸部的所述基材的环绕方向上的端部的曲率半径比除所述端部以外的部分的曲率半径小的方式使所述基材阶段性地弯曲;修整步骤,在该修整步骤中,将由所述弯曲步骤进行了弯曲的所述基材从所述支承座切落并对该公差环进行修整。专利技术效果本专利技术所涉及的中,环绕方向上的两端部的曲率半径与滑架的连结部的开口的曲率半径相等,环绕方向上的除两端部以外的部分的曲率半径比滑架的连结部的开口的曲率半径大,因此能够将压入对象容易地压入,从而起到抑制污染物的产生这样的效果。【专利附图】【附图说明】图1是表示本专利技术的实施方式所涉及的硬盘装置的概要结构的立体图。图2是表示图1所示的硬盘装置的主要部分的结构的局部剖视图。图3是表示图1所示的硬盘装置的主要部分的结构的立体图。图4是表示图1所示的硬盘装置的公差环的结构的立体图。图5是表示图1所示的硬盘装置的公差环的结构的侧视图。图6是表示图1所示的硬盘装置的公差环的结构的示意图。图7是表示本专利技术的实施方式所涉及的公差环的制造方法的一例的流程图。图8是用于说明图7所不的制造工序的不意图。图9是用于说明图7所不的制造工序的不意图。图10是用于说明图7所不的制造工序的不意图。图11是用于说明图7所示的制造工序的示意图。图12是用于说明图7所示的制造工序的示意图。图13是表示本专利技术的实施方式所涉及的公差环的制造方法的示意图。图14是表示现有的硬盘装置的概要结构的立体图。【具体实施方式】以下,参照附图对用于实施本专利技术的方式进行详细的说明。需要说明的是,本专利技术并不受以下的实施方式限定。另外,在以下的说明中参照的各图只不过是在能够理解本专利技术的内容的程度下概要地示出形状、大小、及位置关系。即,本专利技术并不仅是限定于在各图中例示出的形状、大小、及位置关系。需要说明的是,在以下的说明中,作为公差环的例子对硬盘装置进行说明。图1是表示本专利技术的实施方式所涉及的硬盘装置的概要结构的立体图。图1所示的硬盘装置I在外壳主体2内收纳有驱动机构。驱动机构具有:作为记录媒介的硬盘3、驱动硬盘3旋转的主轴4、支承进行向硬盘3的信息记录及信息读出的磁头部50且在硬盘3的表面上进行转动的滑架5、使滑架5精密地转动而控制磁头部50的扫描的VCM6、固定于外壳主体2且将滑架5连结的柱状的枢轴7。需要说明的是,枢轴7呈例如大致柱状,且具有轴承的结构。图2是表示图1所示的硬盘装置I的主要部分的结构的局部剖视图。图3是表示图1所示的硬盘装置I的主要部分的结构的立体图。滑架5具有:在硬盘3的表面上延伸且由前端保持磁头部50的臂51 ;与枢轴7连结且具有剖面直径比枢轴7的剖面的直径略大的柱状的中空空间的连结部52。如图2所示,磁头部50具有:借助由硬盘3的旋转产生的空气流而浮在硬盘3的表面上的悬架50a ;设于悬架50a的端部的、与臂51相连一侧的不同侧的端本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:田岛典拓平间道信舌间淳
申请(专利权)人:日本发条株式会社
类型:
国别省市:

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