光学薄膜的活性化处理方法和制造方法、光学薄膜以及图像显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供光学薄膜的活性化处理方法和制造方法、光学薄膜以及图像显示装置，所述光学薄膜的活性化处理方法能够在层叠了的光学薄膜中兼顾提高其粘接性和防止产生外观缺陷。在沿着辊输送光学薄膜、并从辊的相反侧进行光学薄膜的活性化处理的方法中，边冷却辊边进行活性化处理。作为活性化处理，优选电晕放电处理、等离子体处理以及辉光放电处理中的至少一种处理，作为光学薄膜，优选为偏振片和透明保护薄膜中的至少一种光学薄膜。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供光学薄膜的活性化处理方法和制造方法、光学薄膜以及图像显示装置，所述光学薄膜的活性化处理方法能够在层叠了的光学薄膜中兼顾提高其粘接性和防止产生外观缺陷。在沿着辊输送光学薄膜、并从辊的相反侧进行光学薄膜的活性化处理的方法中，边冷却辊边进行活性化处理。作为活性化处理，优选电晕放电处理、等离子体处理以及辉光放电处理中的至少一种处理，作为光学薄膜，优选为偏振片和透明保护薄膜中的至少一种光学薄膜。【专利说明】光学薄膜的活性化处理方法和制造方法、光学薄膜以及图像显示装置
本专利技术涉及光学薄膜的活性化处理方法及其制造方法。另外，本专利技术涉及利用该制造方法得到的光学薄膜。该光学薄膜可单独或将其层叠而形成液晶显示装置(LCD)、有机EL显示装置、CRT、PDP等图像显示装置。
技术介绍
液晶显示装置是使根据液晶的切换(Switching)的偏光状态可视化的装置，出于该显示原理，使用在偏振片的两面通过粘接剂层贴合有透明保护薄膜的偏光薄膜等的光学薄膜。作为偏振片，例如使碘吸附于聚乙烯醇并拉伸而成的结构的碘类偏振片具有高透过率、高偏光度，因此作为最通常的偏振片而被广泛使用。作为透明保护薄膜，使用透湿度高的三乙酰纤维素等。作为在前述粘接剂层的形成中使用的粘接剂，例如，使用将聚乙烯醇类的材料溶解在水中而成的所谓水系粘接剂。但是，聚乙烯醇类粘接剂在高温高湿下长时间放置时，会吸湿而粘接力下降导致薄膜容易产生剥离、或者偏光薄膜的结构稳定性下降，存在发生液晶显示器的色相变化这样的问题。对于上述问题，提出了对作为透明保护薄膜使用的三乙酰纤维素薄膜的表面进行皂化处理，提高粘接剂和透明保护薄膜的粘接力的方案(专利文献I )。另外，作为前述粘接剂，提出了含有含乙酰乙酰基的聚乙烯醇类树脂和交联剂的物质(专利文献2)。另一方面，提出了使用热固型、活性能量射线固化型等固化型粘接剂代替水系粘接剂的方案(专利文献3)。但是，即便在使用这些固化型粘接剂的情况下，偏振片与透明保护薄膜的粘接力也不够充分。另外，在下述专利文献4中，记载了在UV处理时边密合于加温至40°C的对向辊边使粘接剂固化，从而制造抑制了逆卷曲以及波浪状卷曲(wave curl)的产生的偏光薄膜的方法。但是，在该方法中无法预期异物缺陷的产生，另外也并没有防止其产生的方法的记载或启示。专利文献1:日本特开昭56-50301号公报专利文献2:日本特开平7-198945号公报专利文献3:日本特许第3511111号说明书专利文献4:日本特开2009-134190号说明书
技术实现思路
专利技术要解决的问题夹着粘接剂层层叠两层以上的光学薄膜时，提高其粘接强度是重要的。特别是在光学薄膜为偏光薄膜的情况下，要求进一步提高偏振片与透明保护薄膜的粘接强度。作为改良光学薄膜的粘接性的方法，可列举出电晕放电处理、等离子体处理以及辉光放电处理等活性化处理方法，但根据处理条件的不同，在活性化处理后的光学薄膜上有时会产生外观缺陷。即，尽管为了提高光学薄膜的粘接性，活性化处理是必需而不可缺少的，但实际情况是会随之产生外观缺陷，难以兼顾提高光学薄膜的粘接性和防止外观缺陷的产生。本专利技术的目的在于，提供能够在层叠了的光学薄膜中兼顾提高其粘接性和防止外观缺陷的产生的光学薄膜的活性化处理方法及其制造方法。另外，本专利技术的目的在于提供通过前述制造方法而得到的光学薄膜。本专利技术的目的还在于提供使用了该光学薄膜的液晶显示装置等图像显示装置。用于解决问题的方案本专利技术人等为了解决前述问题，首先对在将光学薄膜活性化处理时产生的外观缺陷的产生机理进行了深入研究。结果发现:(I)用于活性化处理的放电会导致高能量的电子、离子在光学薄膜表面发生冲突，从而在光学薄膜表面生成自由基、离子。(2)它们会与周围的N2、02、H2等反应而导入羧基、羟基、氰基等极性反应基团，但同时也会生成草酸盐(草酸铵((NH4) 2C202))等。(3)该草酸盐等的产生是在光学薄膜上累积而产生外观缺陷的原因。基于上述认识进行了进一步的研究，结果表明，通过边冷却光学薄膜边进行活性化处理，可以防止上述起因于 草酸盐等的外观缺陷的产生和累积。本专利技术是基于上述认识的结论而得出的。即，本专利技术涉及一种光学薄膜的活性化处理方法，其特征在于，其为沿着辊输送光学薄膜、并从前述辊的相反侧进行光学薄膜的活性化处理的方法，其中，边冷却前述辊边进行活性化处理。在上述光学薄膜的活性化处理方法中，前述活性化处理优选为电晕放电处理、等离子体处理以及辉光放电处理中的至少一种处理。在上述光学薄膜的活性化处理方法中，前述光学薄膜优选为偏振片和透明保护薄膜中的至少一种光学薄膜。在上述光学薄膜的活性化处理方法中，前述活性化处理的放电量优选为100~2000W ? min/m2。在上述光学薄膜的活性化处理方法中，优选通过将冷却介质通入前述辊来冷却前述辊。另外，本专利技术涉及一种光学薄膜的制造方法，其特征在于，其为制造在光学薄膜的至少一个面上夹着粘接剂层而层叠有其他光学薄膜的光学薄膜的方法，所述制造方法包括如下工序:活性化处理工序，对前述光学薄膜的层叠前述粘接剂层侧的面实施前述的任一项活性化处理方法；涂覆工序，在前述光学薄膜的进行过活性化处理的面上涂覆粘接剂而层叠粘接剂层；层叠工序，使层叠有前述粘接剂层的光学薄膜与其他光学薄膜夹着前述粘接剂层贴合。在上述光学薄膜的制造方法中，优选的是，前述光学薄膜为在偏振片的至少一个面上夹着粘接剂层设置有透明保护薄膜的偏光薄膜，所述制造方法包括如下工序:活性化处理工序，对前述偏振片和前述透明保护薄膜中的至少一者实施前述的任一项活性化处理方法；涂覆工序，在前述偏振片的进行过活性化处理的面或前述透明保护薄膜的进行过活性化处理的面上涂覆粘接剂而层叠粘接剂层；层叠工序，使前述偏振片与前述透明保护薄膜夹着前述粘接剂层贴合。进而，本专利技术涉及通过前述制造方法而得到的光学薄膜、使用该光学薄膜的图像形成装置。专利技术的效果在本专利技术中，沿着辊的外周面边使光学薄膜密合边进行活性化处理时，通过边冷却辊边进行光学薄膜的活性化处理，可以防止在光学薄膜上产生、累积的、起因于草酸盐等的外观缺陷的产生。通常，在采用放电处理作为活性化处理方法的情况下，若提高活性化处理时的放电处理量，则向光学薄膜上导入的羟基等有助于提高粘接性的官能团的量会增加，因此与夹着粘接剂层的另一光学薄膜的粘接性提高。然而，随着提高活性化处理时的放电处理量，成为外观缺陷的原因的草酸盐等的产生量也会增加，因此如前所述，难以兼顾光学薄膜的粘接性提高和防止外观缺陷的产生。但在本专利技术中，即使为了提高光学薄膜的粘接性而提高活性化处理时的放电处理量，也可以显著降低草酸盐等的产生量，因此能够兼顾光学薄月旲的粘接性提闻和防止外观缺陷的广生。对本专利技术的光学薄膜的活性化处理方法而言，在光学薄膜中，尤其在进行偏振片和/或透明保护薄膜的活性化处理时是有用的。通常，在对光学薄膜进行活性化处理时，光学薄膜的水分率越少，则能够向光学薄膜上导入的羟基等官能团的量就越少、粘接性的提高幅度越小。然而，提高活性化处理时的放电处理量时，向光学薄膜上导入的官能团的量增加，即使在光学薄膜的水分率低的情况下粘接性也会提高。因此，本专利技术的光学薄膜的活性化处理方法在进行水分率低的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学薄膜的活性化处理方法，其特征在于，其为沿着辊输送光学薄膜、并从所述辊的相反侧进行光学薄膜的活性化处理的方法，其中，边冷却所述辊边进行活性化处理。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：品川雅，井上龙一，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：