【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种自对位曝光取向设备，其特征在于，包括：基台，所述基台用于放置待取向显示面板，所述基台与所述待取向显示面板显示区域对应的区域透明设置；与所述待取向显示面板连接的显示面板驱动系统，所述待取向显示面板上间隔分布第一像素组和第二像素组；在所述显示面板驱动系统的控制下，控制所述待取向显示面板与所述第一像素组相对应的区域为透光状态，控制所述待取向显示面板与所述第二像素组相对应的区域为遮光状态；所述待取向显示面板包括第一基板和第二基板，所述第一基板上设有第一偏振片，所述第一偏振片上设有光取向层；从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光；第一曝光光源，位于靠近所述第二基板的一侧；第二曝光光源，位于靠近所述第一基板的一侧，所述第二曝光光源射出的光为线性偏振光，所述线性偏振光的偏振方向与所述第一偏振片的透光轴方向相垂直。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：武延兵，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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