【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供一种用于芯片显影工艺的工艺喷嘴，包括：喷嘴主体和挡流板；喷嘴主体包括一呈U型的主腔室，以及位于主腔室两侧且与主腔室相连通的显影液入口和显影液出口；挡流板的横截面呈T型，插装于主腔室，挡流板密封主腔室口部，挡流板的两T形端面贴于主腔室的腔壁；显影液入口和显影液出口分别位于挡流板的两侧，挡流板与主腔室之间的空间形成U型显影液流道。本工艺喷嘴用于集成电路芯片显影工艺中显影液的输出，能够解决现有显影液输出时存在的流量分配不均的问题，该工艺喷嘴中显影液流道内部压力均匀，对晶圆的工作表面冲击小，能够用于较长长度的显影线的形成，满足显影工艺发展的要求。【专利说明】 —种用于芯片显影工艺的工艺喷嘴
本专利技术涉及芯片显影工艺领域，具体涉及一种用于芯片显影工艺的工艺喷嘴。
技术介绍
目前，显影工艺发展要求晶圆直径越来越大，显影线宽越来越小(90nm线宽或者更小)。这要求显影喷嘴可以在至少300mm的长度方向上进行均匀的流量分配，且要求出口流体对晶圆的工作表面具有较小的冲击。传统使用的流量分配的结构为简单的T型三通管结构，并沿着三通管长度方向开孔进行...
【技术保护点】
一种用于芯片显影工艺的工艺喷嘴，其特征在于，包括：喷嘴主体和挡流板；所述喷嘴主体包括一呈U型的主腔室，以及位于所述主腔室两侧且与所述主腔室相连通的显影液入口和显影液出口；所述挡流板的横截面呈T型，插装于所述主腔室，所述挡流板密封所述主腔室口部，所述挡流板的两T形端面贴于所述主腔室的腔壁；所述显影液入口和显影液出口位于所述挡流板的两侧，所述挡流板与所述主腔室之间的空间形成U型显影液流道。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘学平，王汉，向东，牟鹏，徐强，段广洪，
申请(专利权)人：清华大学深圳研究生院，
类型：发明
国别省市：
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