本发明专利技术公开了一种过孔的检测方法和检测装置，所述过孔设置于膜层中，所述检测方法包括：向所述过孔的内壁发射入射光线；接收由所述内壁反射形成的第一反射光线和由所述膜层的下底面反射形成的第二反射光线；根据所述第一反射光线和所述第二反射光线生成干涉图样；根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数。本发明专利技术提供的检测方法利用了光的干涉原理，实现了对过孔的实时检测，更重要的是，该检测方法不用破坏待检测的产品，有效的节约了经济成本。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种过孔的检测方法和检测装置，所述过孔设置于膜层中，所述检测方法包括：向所述过孔的内壁发射入射光线；接收由所述内壁反射形成的第一反射光线和由所述膜层的下底面反射形成的第二反射光线；根据所述第一反射光线和所述第二反射光线生成干涉图样；根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数。本专利技术提供的检测方法利用了光的干涉原理，实现了对过孔的实时检测，更重要的是，该检测方法不用破坏待检测的产品，有效的节约了经济成本。【专利说明】过孔的检测方法和检测装置
本专利技术涉及显示面板加工领域，特别涉及一种过孔的检测方法和检测装置。
技术介绍
目前在对显示面板进行加工时，为了部件之间的连线方便，会在显示面板上的膜层中形成一些过孔，导线通过过孔将部件连接起来，其中，膜层会包括若干个子膜层。在对过孔进行刻蚀的过程中，相邻的子膜层的交界处容易出现过度刻蚀的现象，进而会在过孔的内壁出现倒角(undercut)的问题，因此，在对过孔加工完成后需要对过孔的内壁进行检测。其中，对过孔的检测包括对过孔的内壁平整度的检测以及对过孔的内壁倾斜角的检测。图1为过孔的结构示意图，图2为合格过孔的内壁的示意图，如图1和图2所示，在衬底基材3上形成有膜层2，过孔设置于膜层2中，具体地，贯穿膜层2形成该过孔。其中膜层2包括多个材料相同子膜层21，合格过孔的内壁I是平整的，内壁I与衬底基材3呈一定的内壁倾斜角。其中，衬底基材3可为金属膜层或基板。图3为过孔的内壁出现倒角的示意图，如图3所示，在衬底基材3上形成有膜层2，在内壁I上出现缺口 4，即内壁I上产生了倒角的问题，使得内壁I不平整。在现有技术中，在对过孔的内壁平整度进行检测以及过孔的内壁倾斜角进行检测时，需要先将带有过孔的产品进行切割取样，然后进行扫描电镜(scanning electronmiCToscope，简称SEM)测试，进而检测出过孔的内壁平整度为平整或不平整，或者检测出过孔的内壁倾斜角等于预先设定角或不等于预先设定角。由上述内容可知，现有的过孔检测技术无法实时的检测过孔，只能是在对过孔加工完成后才能进行检测，更重要的是现有的过孔检测技术是一种破坏性检测技术，需要将带有过孔的产品进行切割取样后再进行检测，从而破坏了待测试的产品，使得产品完全报废，造成不必要的损失。
技术实现思路
本专利技术提供一种过孔的检测方法和检测装置，该检测方法能实现对过孔的实时检测，更重要的是该检测方法不用破坏待检测的产品。为实现上述目的，本专利技术提供一种过孔的检测方法，其中，所述过孔设置于膜层中，所述检测方法包括:向所述过孔的内壁发射入射光线；接收由所述内壁反射形成的第一反射光线和由所述膜层的下底面反射形成的第二反射光线；根据所述第一反射光线和所述第二反射光线生成干涉图样；根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数。可选地，所述向所述过孔的内壁发射入射光线之前，还包括:获取所述过孔的坐标位置。可选地，所述内壁参数包括:内壁平整度，所述根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数包括:判断所述干涉图样中是否包括弯曲的干涉条纹；若判断出所述干涉图样中未包括弯曲的干涉条纹，则检测出所述内壁平整度为平整；若判断出所述干涉图样中包括弯曲的干涉条纹，则检测出所述内壁平整度为不平難iF.0可选地，所述内壁参数包括内壁倾斜角，所述根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数包括:根据所述干涉图样获取所述干涉图样中干涉条纹的总数N ；根据所述干涉条纹的总数，通过【权利要求】1.一种过孔的检测方法，其特征在于，所述过孔设置于膜层中，所述检测方法包括: 向所述过孔的内壁发射入射光线； 接收由所述内壁反射形成的第一反射光线和由所述膜层的下底面反射形成的第二反射光线； 根据所述第一反射光线和所述第二反射光线生成干涉图样； 根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数。2.根据权利要求1所述的过孔的检测方法，其特征在于，所述向所述过孔的内壁发射入射光线之前，还包括: 获取所述过孔的坐标位置。3.根据权利要求1所述的过孔的检测方法，其特征在于，所述内壁参数包括:内壁平整度，所述根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数包括: 判断所述干涉图样中是否包括弯曲的干涉条纹； 若判断出所述干涉图样中未包括弯曲的干涉条纹，则判定所述内壁平整度为平整； 若判断出所述干涉图样中包括弯曲的干涉条纹，则判定所述内壁平整度为不平整。4.根据权利要求1所述的过孔的检测方法，其特征在于，所述内壁参数包括内壁倾斜角，所述根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数包括: 根据所述干涉图样获取所述干涉图样中干涉条纹的总数N ； IN 根据所述干涉条纹的总数，通过Y计算出所述内壁倾斜角，其中λ为入射 n L光线的波长，η为膜层的折射率，L为发射到所述内壁上的入射光线的水平宽度。5.根据权利要求4所述的过孔的检测方法，其特征在于，所述向所述过孔的内壁发射入射光线之前还包括: 调整发射所述入射光线的光源的位置，使得发射到所述内壁上的入射光线的水平宽度为设定宽度L。6.根据权利要求4所述的过孔的检测方法，其特征在于，所述根据所述干涉条纹的总XN数,通过a=arctan —计算出所述内壁倾斜角之后，还包括: n L 判断所述内壁倾斜角是否等于预先设定角； 若判断出所述内壁倾斜角等于预先设定角，则判定所述内壁倾斜角合格； 若判断出所述内壁倾斜角不等于预先设定角，则判定所述内壁倾斜角不合格。7.—种过孔的检测装置，其特征在于，所述过孔设置于膜层中，所述检测装置包括: 发射装置，用于向所述过孔的内壁发射入射光线； 接收装置，用于接收由所述内壁反射形成的第一反射光线和由所述膜层的下底面反射形成的第二反射光线； 生成装置，用于根据所述第一反射光线和所述第二反射光线生成干涉图样； 检测子装置，用于根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数。8.根据权利要求7所述的过孔的检测装置，其特征在于，所述内壁参数包括:内壁平整度，所述检测子装置包括: 第一判断装置，用于判断所述干涉图样中是否包括弯曲的干涉条纹；第一判定装置，用于若判断出所述干涉图样中未包括弯曲的干涉条纹，则判定所述内壁平整度为平整； 第二判定装置，用于若判断出所述干涉图样中包括弯曲的干涉条纹，则判定所述内壁平整度为不平整。9.根据权利要求7所述的过孔的检测装置，其特征在于，所述内壁参数包括内壁倾斜角，所述检测子装置包括: 获取模块，用于根据所述干涉图样获取所述干涉图样中干涉条纹的总数N ; 计算模块，用于根据所述干涉条纹的总数，通过α=arctanλN/nL计算出所述内壁倾斜角， 其中λ为入射光线的波长，η为膜层的折射率，L为发射到所述内壁上的入射光线的水平宽度。10.根据权利要求9所述的过孔的检测装置，其特征在于，所述检测装置还包括: 调整装置，用于调整发射所述入射光线的光源的位置，使得发射到所述内壁上的入射光线的水平宽度为设定宽度L。11.根据权利要求9所述的过孔的检测装置，其特征在于，所述检测装置还包括: 第二判断装置，用于判断所述内壁倾斜角是否等于预先设定角； 第三判定装置，用于若判断出所述内壁倾斜角等于预先设定角，则判定所述内壁倾斜角合格； 第四判定装置，用于若判断出所述内壁倾斜本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种过孔的检测方法，其特征在于，所述过孔设置于膜层中，所述检测方法包括：向所述过孔的内壁发射入射光线；接收由所述内壁反射形成的第一反射光线和由所述膜层的下底面反射形成的第二反射光线；根据所述第一反射光线和所述第二反射光线生成干涉图样；根据所述干涉图样检测所述过孔的内壁参数。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王守坤，郭会斌，刘晓伟，郭总杰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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