一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其中，包括：印刷装置、曝光装置、显影装置、蚀刻装置、清洗装置，曝光装置分别与印刷装置以及显影装置连接，蚀刻装置的后段与清洗装置连接，显影装置的后段与蚀刻装置连接，清洗装置的后段与去膜装置连接、去膜装置后段与水洗装置连接，水洗装置的后段与烘干装置连接。通过使用本实用新型专利技术一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，采用了如上的方案具有以下的效果：通过清洗装置与水洗装置有效的去除残留的化学溶液，同时利用罩体阻隔了设备生产时的废气，并且通过空气过滤器将废气过滤净化。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种带清洗、烘干装置的蚀刻、去膜生产线系统，其特征在于，包括：印刷装置、曝光装置、显影装置、蚀刻装置、清洗装置，所述曝光装置分别与所述印刷装置以及显影装置连接，所述蚀刻装置的后段与所述清洗装置连接，所述显影装置的后段与所述蚀刻装置连接，所述清洗装置的后段与去膜装置连接、所述去膜装置后段与水洗装置连接，所述水洗装置的后段与烘干装置连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：何公明，
申请(专利权)人：宁波东盛集成电路元件有限公司，
类型：实用新型
国别省市：