一种湿刻装置和湿刻设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种湿刻装置，包括：刻蚀室；位于刻蚀室的出口处、且安装于刻蚀室的内壁的气帘；安装于刻蚀室的内壁、对气帘的出气口进行清洗的清洗装置。本实用新型专利技术提供的湿刻装置，可以对刻蚀室出口处的气帘的出气口进行清洗，可以将凝结在气帘的出气口处的酸结晶清洗掉，避免酸的结晶砸在光阻胶上，导致光阻胶断开。所以，上述湿刻装置，可以减少信号线断路现象的发生。另外，本实用新型专利技术还提供了一种湿刻设备，提高了基板的良品率。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种湿刻装置，其特征在于，包括：?刻蚀室；?位于所述刻蚀室的出口处、且安装于所述刻蚀室的内壁的气帘；?安装于所述刻蚀室的内壁、对所述气帘的出气口进行清洗的清洗装置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘耀，丁向前，李梁梁，白金超，赵亮，郭总杰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：