【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种能提高数据线最终关键尺寸均匀性的掩膜板，所述掩膜板中包括用于形成数据线的数据线掩膜图形，其特征在于，对应于阵列基板上近连接线区域内的所述数据线掩膜图形的宽度大于预设的所述数据线掩膜图形的宽度，对应于阵列基板上远连接线区域内的所述数据线掩膜图形的宽度等于预设的所述数据线掩膜图形的宽度。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘耀，丁向前，李梁梁，白金超，赵亮，刘晓伟，郭总杰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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