一种利用简青霉去除废气中的污染物正己烷的方法，它包括以下步骤：1)在装有适量的无机盐营养液且密封性能良好的生物净化装置内接种一定量培养好的简青霉菌体；2）气态正己烷通入到生物净化装置，装置内简青霉（g）:无机盐营养液(L):正己烷（g/m3）比为10:1:2-60:1:12，密封该装置后于25-28℃，150rpm下恒温反应4-7d，去除率可达到50%-90%。本发明专利技术的优点在于该菌对正己烷有较好的去除效果，同时不会对环境造成二次污染，且操作方法简单，实用性强。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种利用简青霉去除废气中的污染物正己烷的方法，它包括以下步骤：1)在装有适量的无机盐营养液且密封性能良好的生物净化装置内接种一定量培养好的简青霉菌体；2）气态正己烷通入到生物净化装置，装置内简青霉（g）:无机盐营养液(L):正己烷（g/m3）比为10:1:2-60:1:12，密封该装置后于25-28℃，150rpm下恒温反应4-7d，去除率可达到50%-90%。本专利技术的优点在于该菌对正己烷有较好的去除效果，同时不会对环境造成二次污染，且操作方法简单，实用性强。【专利说明】
本专利技术涉及一种真菌降解难溶性挥发性有机物的方法，属于生物应用领域，具体是利用简青霉降解气态正己烷。
技术介绍
随着经济的高速发展，空气污染愈来愈严重，已引起了公众的普遍关注，由此各国制定了一系列的法律和法规来控制大气污染。空气污染最严重的一个方面就是挥发性有机物(volatile organic compounds, VOCs)的排放问题。许多企业,如制药工业、废水处理厂、油漆工业以及食品制造业等都是排放VOCs的源头。VOCs包括烷烃、芳烃、醛类、酯类等。目前已鉴定出300多种。VOCs引起的主要危害有以其作为催化剂形成的光化学烟雾、卤化物引起臭氧层的破坏、硫氧化物和氮氧化物导致的酸雨、臭气引起人们的不悦以及导致农作物大量减产和损坏生态系统，特别是有些物质能引起“三致”作用等，而被归为危险空气污染物(hazardous air pollutants, HAPs)。正己烧VOCs中的一种，是优先污染物,被广泛应用于有机合成、油脂去除、食品和化工过程及其他工业流程中的有机溶剂。其水溶性较低，比难溶性的甲苯，苯等挥发性有机物更难溶于水，因此必须采取有效的措施对其进行控制。处理VOCs的方法有物理处理方法(炭吸附、吸收法、冷凝法、膜分离技术)、化学方法(热氧化、催化燃烧、生物氧化、等离子体法、电晕法、紫外光催化氧化法等)和生物处理法，前两种方法在实际应用中处理效果不好，成本较高，因而受到限制。生物处理技术因其成本低廉、环境友好且不产生二次污染而得到深入研究和推广使用。在生物处理过程中，VOCs通过具有活性的优势微生物去除。细菌和真菌是两种优势微生物群体被用来降解VOCs，虽然细菌具有快速生长和去除效率高的优点，但是，真菌对VOCs的去除在低含水率及低PH的情况下有更好的去除效果，且对水溶性很差的挥发性有机物表现出了良好的去除性能。近年来，利用真菌处理VOCs中的正己烷研究越来越多，究其原因是真菌具有丝状结构和亲水面，即形成的菌球具有大的表面积，能够增大转移面，从而提高了 VOCs分配系数，增加了 VOCs从气态到微生物膜上的质量转移。然而降解正己烷用的较多的真菌为白腐真菌，菌株CGMCC3.3241是一株含有果胶霉的真菌，对果胶具有良好的降解性能，在以往的文献中对简青霉的应用停留在对木质素的降解，在处理废气方面，还未发现它的功用。特别是对正己烷的去除目前为止还未发现。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是:针对现有技术的不足提供一种利用简青霉降解正己烷的方法。本专利技术提供的简青霉降解正己烷的方法，所述步骤如下:向装有适量的无机盐营养液的生物净化装置内接种一定量培养好的简青霉菌体，并通入气态正己烷作为唯一碳源到生物净化装置后，于25-28°C、150 rpm下恒温搅拌4-7 d，装置内简青霉(g):无机盐营养液(U:正己烷(g/m3)比为 20:1: 2 - 60:1: 12。上述方法中所述的去除气态正己烷的简青霉为简青霉湿菌体，其制备方法包括以下步骤:接种扩增培养基上的简青霉孢子后将简青霉孢子移入无菌水中制备成悬液，然后将悬液接种于装有培养液的锥形瓶中与25-28°C下振荡培养振荡速度为150 rpm，5 d后形成成熟的简青霉菌体，过滤并用无菌水或者灭菌的无机盐营养液洗涤2-3次后得湿菌体。本专利技术的优点在于:本专利技术是简青霉对正己烷有较好的去除效果，所采用的真菌即简青霉几乎不对环境造成危害，且操作方法简单，实用性强。【具体实施方式】:以下将结合具体实施例对本专利技术做进一步详细说明。实施例1:接种扩增培养基上的简青霉(非致病菌，CGMCC3.3241-简青霉)孢子后将简青霉孢子移入无菌水中制备成悬液，然后将悬液接种于装有150 mL液体培养基的250mL锥形瓶中与25-28°C下振荡培养振荡速度为150 rpm, 5 d后形成成熟的简青霉菌体，过滤并用无菌水或者灭菌的无机盐营养液洗涤2-3次后得湿菌体。取简青霉1.5 g (湿菌体)/ 50 mL(无机盐营养液)的悬液于生物净化装置中,注入浓度为150 mg/m3气态正己烧气体作为唯一碳源，密封后于28 °C恒温条件下，150 rpm振荡4 d后，正己烷去除率为64.12%，继续振荡第7 d，其去除率为90.23%。对照组为含有灭活的简青霉为1.5 g (湿菌体)/ 50mL(无机盐营养液)悬液，初始正己烷浓度相同，第4 d和第7 d，生物净化装置中正己烷的浓度在 145-150 mg/m3。实施例2:接种扩增培养基上的简青霉(非致病菌，CGMCC3.3241-简青霉)孢子后将简青霉孢子移入无菌水中制备成悬液，然后将悬液接种于装有150 mL液体培养基的250mL锥形瓶中与25-28°C下振荡培养振荡速度为150 rpm, 5 d后形成成熟的简青霉菌体，过滤并用无菌水或者灭菌的无机盐营养液洗涤2-3次后得湿菌体。向装有简青霉为1.5 g(湿菌体)/ 50 mL (无机盐营养液)悬液的生物净化装置中注入浓度为300 mg/m3气态正己烷气体作为唯一碳源，密封后于28 °C恒温条件下，150 rpm振荡4 d后，正己烷去除率达到53.2%，继续振荡第7 d，其去除率可达77.78 %。对照组为含有灭活的简青霉为1.5 g (湿菌体)/50 mL (无机盐营养液)悬液，初始正己烷浓度相同，第4 d和第7 d，生物净化装置中正己烷的浓度在292-300 mg/m3。实施例3:接种扩增培养基上的简青霉(非致病菌，CGMCC3.3241-简青霉)孢子后将简青霉孢子移入无菌水中制备成悬液，然后将悬液接种于装有150 mL液体培养基的250mL锥形瓶中与25-28°C下振荡培养振荡速度为150 rpm, 5 d后形成成熟的简青霉菌体，过滤并用无菌水或者灭菌的无机盐营养液洗涤2-3次后得湿菌体。向装有简青霉为3 g (湿菌体)/50 mL (无机盐营养液)悬液的生物净化装置中注入浓度为600 mg/m3气态正己烷气体作为唯一碳源，密封后于28 °C恒温条件下，150 rpm振荡4 d后，正己烷去除率达到56.34%，继续振荡第7 d，其去除率可达72.53 %。对照组为含有灭活的简青霉为3 g(湿菌体)/ 50 mL (无机盐营养液)悬液，初始正己烷浓度相同，第4 d和第7 d，生物净化装置中正己烧的浓度在586-598 mg/m3。【权利要求】1.一种利用简青霉去除气态正己烷的方法，其特征在于所述方法包括以下步骤:向装有适量的无机盐营养液的生物净化装置内接种一定量培养好的简青霉菌体，并通入气态正己烷作为唯一碳源到生物净化装置后，于25-28°C、150 rpm下恒温搅拌4-7本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种利用简青霉去除气态正己烷的方法，其特征在于所述方法包括以下步骤：向装有适量的无机盐营养液的生物净化装置内接种一定量培养好的简青霉菌体，并通入气态正己烷作为唯一碳源到生物净化装置后，于25?28℃、150?rpm下恒温搅拌4?7?d，装置内简青霉（g）:?无机盐营养液?(L)?:正己烷（g/m3）比为20:1:2???60:1:12。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：杨春平，程燕，何慧军，代传花，王璐，涂燕红，曾光明，刘红玉，
申请(专利权)人：湖南大学，
类型：发明
国别省市：
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