本发明专利技术提供了一种处理腔室部件及制造所述处理腔室部件的方法。处理腔室部件以本文所述的方式制造且所述处理腔室部件包括在腔室部件的表面上产生至少巨观纹理。巨观纹理由多个设计特征限定，所述多个设计特征在腔室部件的表面上以预限定取向布置。在一些实施例中，设计特征防止形成在特征之间限定的视线表面，以增强沉积在腔室部件上的膜的保持。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】本专利技术提供了一种处理腔室部件及制造所述处理腔室部件的方法。处理腔室部件以本文所述的方式制造且所述处理腔室部件包括在腔室部件的表面上产生至少巨观纹理。巨观纹理由多个设计特征限定，所述多个设计特征在腔室部件的表面上以预限定取向布置。在一些实施例中，设计特征防止形成在特征之间限定的视线表面，以增强沉积在腔室部件上的膜的保持。【专利说明】专利技术背景专利
本专利技术的实施例大体涉及处理腔室部件及用于制造所述处理腔室部件的方法。相关技术的描述已将处理腔室部件粗糙化以增强沉积膜的保持，进而延长必须清洁腔室部件以防止膜自腔室部件剥落且成为污染源的时间。然而，由于为了将膜保持甚至更长时间间隔的目的，已将表面粗糙化至越来越大的表面粗糙度(Ra)，但是粗糙化表面的尖峰具有增加的折断倾向，因此粗糙化表面的尖峰本身成为一种污染源且使许多高粗糙化表面不适合用于关键应用。因此，存在对于改良的处理腔室部件的需要。
技术实现思路
本专利技术提供了一种处理腔室部件及制造所述处理腔室部件的方法。处理腔室部件以本文所述的方式制造且所述处理腔室部件包括在腔室部件的表面上产生至少巨观纹理。巨观纹理是由在腔室部件的表面上以预限定取向布置的多个设计特征限定。在一些实施例中，设计特征防止形成在特征之间限定的视线表面以增强沉积在腔室部件上的膜的保持。在一个实施例中，腔室部件包括具有巨观纹理特征及微观纹理表面粗糙度的表面。在另一实施例中，一种用于制造腔室部件的方法包括以下步骤:将光刻胶掩模安置于半导体腔室部件的表面上，且经由形成于光刻胶掩模中的开口将材料自半导体腔室部件移除以形成具有离散特征的转印图案。在另一实施例中，腔室部件包括具有巨观纹理特征及微观纹理表面粗糙度的表面，其中特征具有圆边。在另一实施例中，提供具有经图案化以增强沉积膜的保持的表面的制品，所述制品包括具有由设计特征形成的巨观纹理表面的处理腔室部件，所述设计特征经布置以防止横跨纹理表面形成视线表面。在另一实施例中，提供具有经图案化以增强沉积膜的保持的表面的制品，所述制品包括具有由设计特征形成的巨观纹理表面的处理腔室部件，所述设计特征以防止横跨纹理表面形成视线表面的预限定图案布置，设计特征以预限定图案布置，形成纹理表面的设计特征经微观纹理化至大约IOORa至大约300Ra的表面光洁度。在又一实施例中，提供一种用于制造半导体腔室部件的方法，所述方法包括以下步骤:用掩模覆盖腔室部件的表面；且自腔室部件的表面移除材料以形成限定纹理表面的多个设计特征，设计特征经布置以防止横跨纹理表面形成视线表面。附图简单说明因此，为使可详细理解本专利技术的上述特征结构，可参照实施例更特定描述上文简要概述的本专利技术，所述实施例中的一些实施例图示于附图中。然而，应注意，附图仅图示本专利技术的典型实施例，且因此不欲将附图视为本专利技术范围的限制，因为本专利技术可承认其它同等有效的实施例。图1为本专利技术的一个实施例的处理腔室部件的纹理表面的部分平面图。图2为图1的处理腔室部件的纹理表面的部分剖视图。图3为图2的处理腔室部件的纹理表面的部分剖视图，所述纹理表面具有安置于所述纹理表面上的光刻胶掩模。图4为光刻胶掩模的一个实施例的部分平面图。图5为处理腔室部件的纹理表面的另一实施例的部分剖视图。图6为图5的处理腔室部件的纹理表面的部分剖视图，所述纹理表面具有安置于所述纹理表面上的光刻胶掩模。图7至图8为具有一或多个纹理表面的处理腔室部件的示例性实施例。图9为本专利技术的另一实施例的处理腔室部件的纹理表面的俯视平面图。图10为经由剖面线A-A获取的图9的处理腔室部件的纹理表面的剖视图。图11为本专利技术的一个实施例的处理腔室部件的纹理表面的部分平面图。图12为经由剖面线B-B获取的图11的处理腔室部件的纹理表面的部分剖视图。图13A至图13E为图示制造顺序的不同阶段的处理腔室部件的部分剖视图，所述制造顺序用以在处理腔室部件上形成纹理表面的一个实施例。为了促进理解，在可能情况下已使用相同元件符号以指定为诸图所共有的相同元件。亦可预期一个实施例的元件及特征可有利地并入其它实施例中而无需进一步叙述。具体描沭本专利技术的实施例涉及延长处理腔室中的配件使用寿命的方法及由所述方法制造的处理腔室部件。以本文所述方式制造的处理腔室部件包括在腔室部件的表面上产生至少巨观纹理，所述巨观纹理具有增强的膜保持，进而延长表面间隔且另外降低粒子污染。因此，新颖处理腔室部件有助于减少工具停机时间且降低拥有成本。可以预期，“处理腔室部件”包括用于处理腔室中的部件，所述处理腔室用于制造集成电路、平板显示器、太阳能电池板、OLED、LED及上述各者的类似物。亦可预期，本文所述的纹理化技术可用在期望将膜保持至表面的其它应用中。本专利技术的实施例涉及可选地结合微纹理珠粒喷击，使用光刻方法于处理配件表面(例如，腔室部件的表面)上故意产生巨观纹理。可使用对膜特性的了解设计巨观纹理以将保持膜的百分比最大化。在压缩金属膜的实例中，即使在膜破裂的情况下凹状纹理也可用以保持膜。此方法允许在处理配件部分上产生图案以及图案部分，针对特定膜的特性调整所述图案，以及所述图案部分无法吸收替代热图案化技术的热负荷。用于纹理化处理腔室部件的方法也避免是否值得制造高粗糙度涂层相关联的挑战。在一些情况下，已实质降低缺陷计数，而且实质延长配件使用寿命。此工艺可潜在地用于处理腔室的所有缺陷敏感部分上。此方法对于不具有原位清洁能力的工艺(例如，物理气相沉积(physical vapordeposition;PVD)腔室及一些金属化学气相沉积(chemical vapor deposition;CVD)腔室)尤其有用。图1为本专利技术的一个实施例的处理腔室部件100的巨观纹理表面102的部分平面图。巨观纹理表面102包括具有设计特征104的重复预限定图案。术语“设计特征”意谓利用掩模或其它精密机械加工技术将特征的大概形状及布置转印至腔室部件的表面，所述掩模或其它精密机械加工技术预限定自腔室部件的表面移除材料的位置以使得例如形成孔的预限定图案，而利用经由掩模形成的孔的形状及布置以限定特征104的布置。举例而言，不使用掩模的表面蚀刻或珠粒喷击无法形成设计特征。设计特征104至少部分地凹入腔室部件100的预纹理表面之下，例如，特征104的顶部可与腔室部件100的预纹理表面实质共面。特征104可相连地连接，或可为离散形式。举例而言，特征104可为通过自腔室部件100的预纹理表面移除材料以留下材料“柱”而形成的相连连接的凹部，如图示于图2及图11中的示例性实施例所示；特征104可为离散凹部，所述离散凹部以分离在腔室部件的预纹理表面中形成的凹部区域的多个互连壁或脊部的形式，如图5及图9中所示的示例性实施例所示；或特征104可为相连连接特征及离散特征的组合。在表面102中形成的特征104可以重复图案或以随机方式布置。在一个实施例中，特征104经布置以(例如)通过以防止横跨纹理表面102于特征104之间形成视线表面的图案或其它布置来布置特征104，从而避免在特征104之间产生连续的平坦表面。以不具有在横跨纹理表面102的特征104之间限定的视线表面的图案布置的特征104的实例如下参照图9及图11图示且描述。有利地，具有纹理表面102的处理腔室部件1本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：迈克尔·杰克逊，温德尔·G·博伊德，苏忠凯，吕鸣烨·威廉，吉富吾一，约瑟夫·F·萨默斯，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：
国别省市：
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