【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
用于校正汞探针电阻率量测仪的标准片,其特征在于,通过以下步骤确定:1)、在同样的参数下连续生产N/P结构外延片和N/N结构外延片;所述N/P结构外延片包括P型衬底和N型掺杂外延层;所述N/N结构外延片包括N型衬底和N型掺杂外延层;两种外延片的外延层厚度均为15μm以上;2)、使用四探针电阻率量测仪测量N/P结构外延片外延层的电阻率值,记为X;使用汞探针电阻率量测仪测量N/N结构外延片外延层的电阻率值,记为Y;3)、重复步骤1)、2)多次,根据测量的多个Y值与多个X值,得出两者的线性对应公式Y=aX+b中a的值和b的值;4)、在同一参数下连续生产多片N/P结构外延片和多片N/ ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:王浩,邹崇生,
申请(专利权)人:上海晶盟硅材料有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。