一种高精密的光栅位移测量装置制造方法及图纸

技术编号:9380474 阅读:79 留言:0更新日期:2013-11-27 23:05
本发明专利技术是一种高精密的光栅位移测量装置。包括有由反射光栅尺、第一光学放大系统、第二光学放大系统、FPGA驱动单元、第一CMOS阵列和第二CMOS阵列,反射光栅尺的增量码由第一光学放大系统放大,反射光栅尺的绝对码由第二光学放大系统放大,FPGA驱动单元驱动第一CMOS阵列和第二CMOS阵列采集两路光形成两张图像,对绝对码图像处理解码出一个光栅尺的绝对位置距离,对增量码的处理进一步计算出一个误差的增量距离,这两个距离加在一起最终得到一个CMOS阵列中心相对光栅尺的一个高精确的距离。本发明专利技术通过宏微复合的方法实现高精度位移测量,其分辨力可以到达纳米级。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种高精密的光栅位移测量装置,其特征在于包括有由反射光栅尺(101)、第一光学放大系统(102)、第二光学放大系统(103)、FPGA驱动单元(106)、第一CMOS阵列(104)和第二CMOS阵列(105),反射光栅尺(101)的增量码由第一光学放大系统(102)放大,反射光栅尺(101)的绝对码由第二光学放大系统(103)放大,?FPGA驱动单元(106)驱动第一CMOS阵列(104)和第二CMOS阵列(105)采集两路光形成两张图像,对绝对码图像处理解码出一个光栅尺的绝对位置距离,对增量码的处理进一步计算出一个误差的增量距离,这两个距离加在一起最终得到一个CMOS阵列中心相对光栅尺的一个高精确的距离。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈新王晗陈新度刘强朱增顶
申请(专利权)人:广东工业大学
类型:发明
国别省市:

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