一种通过调节孔隙率制备二氧化硅宽带增透膜的方法技术

本发明专利技术涉及一种过调节孔隙率制备二氧化硅宽带增透膜的方法，属于光学薄膜材料领域。本发明专利技术采用溶胶-凝胶技术，以调节薄膜的孔隙率为手段，利用两步提拉工艺获得了具有折射率梯度的二氧化硅宽带增透膜。与一般宽带增透材料相比，本产品具有成本低、工艺简单、光学性能好、机械强度高以及抗激光损伤能力强等优点，在可见光波段的平均透过率可达99.8%，可广泛用于大屏幕显示器、玻璃橱窗、太阳能电池以及高功率激光系统等领域。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种通过调节孔隙率制备二氧化硅宽带增透膜的方法，其特征在于具体步骤如下：(1)采用下述方法制备高孔隙率/低折射率薄膜对应的溶胶将正硅酸乙酯、无水乙醇、氨水和去离子水按体积比1：10：（0.15?0.4）：（0?0.15）在常温下混合搅拌1小时以上，之后将溶液密封常温下老化3?8天，最后78℃回流2?6小时得到稳定的溶胶；?(2)采用下述任一种方法制备低孔隙率/高折射率薄膜对应的溶胶将正硅酸乙酯、无水乙醇、催化剂、去离子水按体积比1：10：（0.05?0.5）：（0.05?0.3）在常温下混合搅拌50?70分钟，然后静置3?10小时得到稳定的溶胶；所述催化剂为浓度为36%?38%的盐酸或醋酸；或者：将无水乙醇、氨水、去离子水和聚乙二醇在常温下混合搅拌10分钟以上，快速加入正硅酸乙酯继续搅拌1小时，之后将溶液密封常温下老化2?4天，最后78℃回流2?6小时得到稳定的溶胶；正硅酸乙酯、无水乙醇、氨水、去离子水和聚乙二醇的体积比为1：10：（0.15?0.4）：（0?0.15）：（0.1?0.3），聚乙二醇的分子量为400或600；(3)?双层膜的制备将洁净的玻璃基底竖直浸入到步骤(2)所得的溶胶中，以0.5?5mm/s的速度匀速提拉，提拉结束后在空气中自然干燥2分钟，然后浸入到步骤(1)所得的溶胶中，以0.5?3mm/s的速度匀速提拉，最后对制得的双层膜样品进行热处理。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：沈军，李晓光，邹丽萍，
申请(专利权)人：同济大学，
类型：发明
国别省市：