【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
光栅刻划刀调整装置,其特征在于,包括承载座(1)、压电陶瓷(2)、刀架定位安装头(3)、刀架(4)、测量装置(5)、抬落刀机构(6)、封闭力机构和数据采集控制模块;所述压电陶瓷(2)设于所述承载座(1)上,所述刀架定位安装头(3)与所述压电陶瓷(2)的输出端连接,所述刀架(4)位于所述刀架定位安装头(3)的下方,所述测量装置(5)固定于所述承载座(1),对光栅基底和刀架定位安装头(3)的相对位移进行测量,所述n个封闭力机构设于所述承载座(1)和所述刀架定位安装头(3)之间,所述抬落刀机构(6)安装在所述刀架定位安装头(3)上,实现刀架(4)的抬起和落下;所述压电陶瓷(2)和所述测量装置(5)与数据采集控制模块连接,所述数据采集控制模块控制所述压电陶瓷(2)驱动所述刀架定位安装头(3)产生位移量,调节所述刀架(4)的运行误差。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:唐玉国,于海利,李晓天,杨超,齐向东,巴音贺希格,
申请(专利权)人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,
类型:发明
国别省市:
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