氧分离膜元件、接合方法和接合材料技术

本发明专利技术提供的一种氧分离膜元件，在多孔基材上具备作为氧离子传导体的由钙钛矿结构的氧化物陶瓷构成的氧分离膜，在所述氧分离膜上接合有至少一个陶瓷制连接部件，所述氧分离膜与所述连接部件的接合部分由在玻璃基体中析出有白榴石结晶的玻璃形成，由此该接合部分中的气体流通被阻断，其中，所述接合部分实质上由下述组成的氧化物成分构成，以氧化物换算的质量比计，SiO2为60～75质量％、Al2O3为10～20质量％、Na2O为5～20质量％、K2O为5～20质量％、MgO为0～3质量％、CaO为0～3质量％、B2O3为0～3质量％，构成所述接合部分的玻璃的热膨胀系数为10～14×10－6K－1。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种氧分离膜元件，其特征在于：在多孔基材上具备作为氧离子传导体的由钙钛矿结构的氧化物陶瓷构成的氧分离膜，在所述氧分离膜上接合有至少一个陶瓷制连接部件，所述氧分离膜与所述连接部件的接合部分由在玻璃基体中析出有白榴石结晶的玻璃形成，由此该接合部分中的气体流通被阻断，其中，所述接合部分实质上由下述组成的成分构成，以氧化物换算的质量比计，SiO2为50～70质量％、Al2O3为10～20质量％、Na2O为5～20质量％、K2O为5～20质量％、MgO为0～3质量％、CaO为0～3质量％、SrO为0～3质量％，构成所述接合部分的玻璃的热膨胀系数为10～14×10－6K－1。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：高桥洋祐，左合澄人，山田诚司，平野正义，
申请(专利权)人：诺利塔克股份有限公司，
类型：发明
国别省市：