基于介电泳效应的抛光设备制造技术

技术编号:9341373 阅读:171 留言:0更新日期:2013-11-13 19:56
基于介电泳效应的抛光设备,包括带有上抛光盘、下抛光盘和工件夹具的抛光机本体,所述的工件夹具位于所述的上抛光盘与所述的下抛光盘之间的抛光加工区域,所述的上抛光盘和所述的下抛光盘上分别加装电极,每个所述的电极面向抛光加工区域的表面设置绝缘板,且所述的绝缘板表面粘贴抛光垫;所述的上抛光盘上设置抛光液注入口;所述的上抛光盘的电极和所述的下抛光盘的电极分别与交流电源连接,所述的交流电源的电流输入端与调频调压控制器连接,控制交流电源的电压与频率。本实用新型专利技术的有益效果是:减缓离心力对抛光液及磨粒的甩出,延长抛光液和磨粒的驻留时间,工件平面度更高。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
基于介电泳效应的抛光设备,包括带有上抛光盘、下抛光盘和工件夹具的抛光机本体,所述的工件夹具位于所述的上抛光盘与所述的下抛光盘之间的抛光加工区域,其特征在于:所述的上抛光盘和所述的下抛光盘上分别加装电极,每个所述的电极面向抛光加工区域的表面设置绝缘板,且所述的绝缘板表面粘贴抛光垫;所述的上抛光盘上设置抛光液注入口;所述的上抛光盘的电极和所述的下抛光盘的电极分别与交流电源连接,所述的交流电源的电流输入端与调频调压控制器连接,控制交流电源的电压与频率。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:邓乾发周芬芬吕冰海袁巨龙郭伟刚郁炜赵萍厉淦赵天晨
申请(专利权)人:浙江工业大学
类型:实用新型
国别省市:

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