远程激发氟与水蒸气的蚀刻方法技术

描述一种蚀刻图案化异质构造上的暴露的氧化硅的方法，所述方法包括由含氟前驱物形成的远程等离子体蚀刻。来自远程等离子体的等离子体流出物流进衬底处理区域，在该处等离子体流出物与水蒸气结合。在一些实施方式中，由所述结合所造成的化学反应产生反应物，这些反应物蚀刻所述图案化异质构造以产生薄的残余构造，所述薄的残余构造显现极少变形。这些方法可用于共形地修整氧化硅，同时移除极少或不移除硅、多晶硅、氮化硅、钛或氮化钛。在示范性实施方式中，已发现此处描述的蚀刻工艺移除薄的圆柱状导电构造周围的外模氧化物而不引发圆柱状构造显著地变形。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：张景春，王安川，妮琴·K·英吉，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：
国别省市：