光调制设备制造技术

本发明专利技术公开了一种光调制设备。上述光调制设备包括：彼此相对设置的第一基板和第二基板；第一电极，设置于第一基板上；第一疏水性介电层，覆盖第一电极；第二疏水性介电层，设置于第二基板上；第一凸出物和第二凸出物，分别设置于第一基板上；第二电极，设置于第一基板上，其中第一电极和第二电极分别靠近第二凸出物和第一凸出物；第一液体与第二液体，设置于第一基板和第二基板之间，其中第一电极和第二电极未施加电压时，第一液体位于第二电极的正上方，且第一液体和第二液体之间的界面位于第一电极上方。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种光调制设备，包括：第一基板和一第二基板，其彼此相对设置；第一电极，设置于该第一基板上；第一疏水性介电层，覆盖该第一电极；第二疏水性介电层，设置于该第二基板上；第一凸出物和一第二凸出物，分别设置于该第一基板上；第二电极，设置于该第一基板上，其中该第一电极和该第二电极分别靠近该第二凸出物和该第一凸出物；以及第一液体与第二液体，设置于该第一基板和该第二基板之间，其中，当该第一电极和该第二电极未施加电压时，该第一液体位于该第二电极的正上方，且该第一液体和该第二液体之间的一界面位于该第一电极的上方。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：古昀生，李国昶，郑惟元，李信宏，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：