一种处理惰性基底上石墨烯的方法技术

本发明专利技术公开了一种处理惰性基底上石墨烯的方法，该方法包括：将石墨烯沉浸在氢离子浓度为8-10mol/L且Mn2O7浓度为0.016-0.4重量％的水溶液中。本发明专利技术提供的处理惰性基底上石墨烯的方法，只需将石墨烯沉浸在氢离子浓度为8-10mol/L且Mn2O7浓度为0.016-0.4重量％的水溶液中，方法简单、低耗；可通过调节沉浸时间来得到不同电学性质的石墨烯，方法可控；反应条件温和，在室温下即可进行，无需搅拌，实现了位于惰性基底上的石墨烯的处理。本发明专利技术方法可广泛应用于工业生产。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种处理惰性基底上石墨烯的方法，该方法包括：将石墨烯沉浸在氢离子浓度为8?10mol/L且Mn2O7浓度为0.016?0.4重量％的水溶液中。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王圣楠，王锐，王小伟，裘晓辉，
申请(专利权)人：国家纳米科学中心，
类型：发明
国别省市：