显示装置及其制造方法制造方法及图纸

一种显示装置及制造显示装置的方法，显示装置的像素包括：第一基板；有机绝缘层，设置在第一基板上且具有以不平坦结构形成的上表面；无机绝缘层，设置在有机绝缘层上且以不平坦结构形成；第一电极，设置在无机绝缘层上且以不平坦结构形成；以及向第一电极提供数据电压的装置，其中第一电极包括反射入射光的反射电极。

【技术实现步骤摘要】
显示装置及其制造方法相关申请的交叉参考本申请要求2012年4月10日提交的韩国专利申请第10-2012-0037505号的优先权和权益，该专利申请就所有方面而言通过引用方式结合于此，如同其在这里阐述一样。
本公开涉及一种显示装置及其制造方法，更具体地，涉及一种能够提高反射率和清晰度并简化工艺的显示装置及其制造方法。
技术介绍
近来，已经开发了各种显示装置，诸如液晶显示器、有机发光二极管显示器、电润湿显示装置、等离子显示面板（PDP）、以及电泳显示装置。电润湿显示装置在这些显示装置中已经成为公众注意的中心，电润湿显示装置相比于液晶显示器（LCD）具有低能耗和高清晰度。电润湿显示装置通过施加电压至作为电解质的水性液体可以改变流体的表面张力，因此可以造成流体的运动或变形。通过根据流体运动而反射或传输来自外部的光以显示图像的方法来驱动电润湿显示装置。在
技术介绍
部分中公开的上述信息仅用于加强对本专利技术背景的理解，因此所包含的信息可以既不构成现有技术的任何部分，也不构成对本领域普通技术人员的暗示。
技术实现思路
本公开提供一种可具有提高的反射率和清晰度且可利用更简单工艺制造的显示装置及其制造方法。本专利技术的其他特征将在下面的说明书中阐述，并且部分地将从说明书中显而易见，或者可以从本专利技术的实践中获知。本专利技术的示例性实施方式公开了一种包括被配置成显示图像的多个像素的显示装置。每个像素包括：第一基板；有机绝缘层，设置在第一基板上且具有以不平坦结构形成的上表面；无机绝缘层，设置在有机绝缘层上且具有以不平坦结构形成的上表面；第一电极，设置在无机绝缘层上且具有以不平坦结构形成的上表面；以及被配置成向第一电极提供数据电压的装置。第一电极包括被配置成反射入射光的反射电极。本专利技术的示例性实施方式还公开了一种制造包括多个像素的显示装置的方法。该方法包括：在第一基板上形成有机绝缘层；在有机绝缘层上形成无机绝缘层，从而在有机绝缘层的上表面中形成不平坦结构，无机绝缘层形成有位于无机绝缘层的上表面中的不平坦结构；以及在无机绝缘层上形成第一电极，第一电极的上表面形成有不平坦结构。第一电极的形成包括形成反射电极。本专利技术的示例性实施方式还公开了另一种制造包括多个像素的显示装置的方法。该方法包括：在第一基板上形成第一绝缘层；在第一绝缘层上形成第二绝缘层，从而使第一绝缘层的上表面变粗糙；以及在第二绝缘层上形成导电材料。导电材料的上表面和第二绝缘层的上表面具有与第一绝缘层的粗糙上表面对应的粗糙上表面，并且第一绝缘层的粗糙上表面的均方根粗糙度值在大约10nm至大约200nm的范围内。应该理解，以上一般性描述和下面的详细描述都是示例性和说明性的，旨在对要求保护的专利技术提供进一步的解释。附图说明附图被包括进来以提供对本专利技术的进一步理解，并且附图结合在说明书中并构成本说明书的一部分，附图示出了本专利技术的示例性实施方式并与描述部分一起用于解释本专利技术的原理。图1是示出根据本专利技术的示例性实施方式的显示装置的透视图。图2是示出图1中所示的任意单个像素的横截面视图。图3是图2中所示的区域A的放大视图。图4示出了图2中所示的像素根据施加的电压的操作。图5A、图5B、图5C、图5D和图5E示出了制造根据本专利技术的示例性实施方式的显示装置的方法。图6A和图6B示出了有机绝缘层的不平坦结构。图7是示出由反射层反射的光的反射率的示图。图8是示出根据本专利技术的另一示例性实施方式的显示装置的任意单个像素的横截面视图。具体实施方式下面参照附图更全面地描述本专利技术，附图中示出了本专利技术的示例性实施方式。但是本专利技术可以以很多不同的方式实现，并且不应将本专利技术理解为仅限于这里所描述的示例性实施方式。相反，提供这些示例性实施方式的目的在于使本公开更充分并将本专利技术的范围完全传达给本领域技术人员。附图中，为了清楚起见，可能放大了层和区域的尺寸和相对尺寸。附图中的相同参考标号表示相同元件。应理解的是，当提到一元件或层位于另一元件或层“上”、或者“连接至”另一元件或层时，该元件或层可直接位于另一元件或层上、或者直接连接至另一元件或层，或者存在中间的元件或层。相反，当提到一元件或层“直接位于…上”或“直接连接至”另一元件或层时，则不存在中间的元件或层。应理解的是，为了本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一个”可以表示仅X、仅Y、仅Z或者两个或更多个项X、Y和Z的任意组合（例如，XYZ、XYY、YZ、ZZ）。图1是示出根据本专利技术的示例性实施方式的显示装置的透视图。参照图1，显示装置100包括：第一基板110，其中限定有以矩阵形式布置的多个像素PX的每个区域；第二基板120，面向第一基板110；以及电润湿层130，设置在第一基板110与第二基板120之间。图2是示出图1中所示的任意单个像素的横截面视图，并且图3是图2中所示的区域A的放大视图。由于图1中所示的像素具有相同的构造，所以图2中仅示出了多个像素PX中的单个像素PX的横截面。图3是示出图2中所示的不平坦结构的放大视图，以便具体地描述该不平坦结构。参照图2和图3，第一基板110包括基底基板111、电子器件（诸如开关元件）、栅极介电层112、有机绝缘层113、无机绝缘层114、第一电极115、绝缘层116、疏水层117和隔离壁118。第一电极115包括透明导电层115_1和反射电极115_2。图2中的像素PX示出了作为一实例的反射型显示装置的像素。尽管图2和图3中未示出，但对于反射型显示装置而言，第一电极115可以仅包括反射电极115_2，而不包括透明导电层115_1。此外，尽管图2和图3中未示出，但第一电极115可以通过在反射电极115_2上形成透明导电层115_1而形成。第二电极120包括第二基底基板121、滤色器122和公共电极123。像素PX的侧面范围可以由图2中所示的两条虚线之间的区域限定。因此，如图2中所示，像素PX的每个区域可以由第一基板110和第二基板120共享。而且，图2中所示的像素PX可以由包括彼此面对的第一基板110和第二基板120以及包括在第一基板110与第二基板120之间的电润湿层130的构造限定。而且，由于像素PX的每个区域可以由第一基板110和第二基板120共享，所以像素PX的每个区域可以限定在第一基底基板111上。第一基底基板111和第二基底基板121彼此面对。第一基底基板111和第二基底基板121可由透明绝缘材料形成。例如，第一基底基板111和第二基底基板121可以由玻璃或聚合物（诸如塑料）形成。当第一基底基板111和第二基底基板121由塑料基板形成时，第一基底基板111和第二基底基板121可以由聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）、纤维增强塑料或聚萘二甲酸乙二醇酯（PEN）形成。而且，当第一基底基板111和第二基底基板121由塑料基板形成时，可以实现柔性显示器。开关元件可以由设置在第一基底基板111上的薄膜晶体管（TFT）形成。尽管图2中未示出，但像素PX包括接收栅极信号的栅极线和接收数据电压的数据线。TFT包括从栅极线分出来的栅电极GE、从数据线分出来的源电极SE、以及与源电极SE隔开并电连接至第一电极115的漏电极DE。TFT通过由栅极线提供的栅极信号而导通，并且导通的TFT向第一电极115施加由数据线提供的数据电压。TFT的栅电本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显示装置，包括被配置成显示图像的多个像素，每个像素包括：第一基板；有机绝缘层，设置在所述第一基板上且具有以不平坦结构形成的上表面；无机绝缘层，设置在所述有机绝缘层上且具有以所述不平坦结构形成的上表面；第一电极，设置在所述无机绝缘层上且具有以所述不平坦结构形成的上表面；以及配置成向所述第一电极提供数据电压的装置，其中，所述第一电极包括被配置成反射入射光的反射电极。

【技术特征摘要】
2012.04.10 KR 10-2012-00375051.一种显示装置，包括被配置成显示图像的多个像素，每个像素包括：第一基板；有机绝缘层，设置在所述第一基板上且具有以不平坦结构形成的上表面；无机绝缘层，设置在所述有机绝缘层上且具有以与所述有机绝缘层的所述不平坦结构相同的不平坦结构形成的上表面；第一电极，设置在所述无机绝缘层上且具有以与所述有机绝缘层的所述不平坦结构相同的不平坦结构形成的上表面；以及配置成向所述第一电极提供数据电压的装置，其中，所述第一电极包括被配置成反射入射光的反射电极，并且其中，所述有机绝缘层的所述不平坦结构是通过在所述无机绝缘层的沉积过程中产生的应力而形成，并且所述有机绝缘层的所述不平坦结构包括多个突起和多个沟谷，所述突起不规则地形成为具有彼此不同的高度，并且所述沟谷不规则地形成为具有彼此不同的高度。2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述第一电极进一步包括设置在所述无机绝缘层上的透明导电层，所述反射电极设置在所述透明导电层上。3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，每个像素包括被配置成反射所述入射光的反射区域和被配置成传输所述入射光的透射区域，所述反射电极设置在所述反射区域中。4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述有机绝缘层的所述不平坦结构包括多个突起和多个沟谷，并且所述突起和所述沟谷的高度差等于或小于500nm。5.根据权利要求4所...

【专利技术属性】
技术研发人员：洪正武，李铉大，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：