蒸发源以及使用了它的真空蒸镀装置制造方法及图纸

技术编号:9272171 阅读:163 留言:0更新日期:2013-10-24 21:23
本发明专利技术提供一种即使蒸镀材料进入蒸发源内部,也防止膜质的劣化,不会对连续运转、维护产生障碍的蒸发源以及真空蒸镀装置。蒸发源以及真空蒸镀装置由具有用于将加热被封入的蒸镀材料而蒸发出的蒸镀材料排放的喷嘴的坩埚、用于加热该坩埚的加热构件、配置在上述坩埚和上述加热构件的周边的隔热构件构成,在上述隔热构件和坩埚或者加热构件之间设置由该加热构件保持为低温的浮游蒸镀物回收构件,且在该浮游蒸镀物回收构件和上述坩埚以及上述加热构件之间设置隔热构件。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种蒸发源,所述蒸发源由具有喷嘴的坩埚、用于加热该坩埚的加热构件、配置在上述坩埚和上述加热构件的周边的第一隔热构件构成,上述喷嘴用于排放将被封入的蒸镀材料加热而蒸发出的蒸镀材料,其特征在于,在上述第一隔热构件和坩埚或者加热构件之间,设置由该加热构件保持为低温的浮游蒸镀物回收构件,且在该浮游蒸镀物回收构件和上述坩埚以及上述加热构件之间设置第二隔热构件。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:松浦宏育松崎永二尾方智彦三宅龙也峰川英明矢崎秋夫
申请(专利权)人:株式会社日立高新技术
类型:发明
国别省市:

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