一种溶胶-凝胶法制备Sm2O3纳米阵列的方法技术

一种溶胶-凝胶法制备Sm2O3纳米阵列的方法，将Sm(NO3)3·6H2O加入去离子水中制得透明溶液；采用调节透明溶液的pH值至4.5～7.0后再加入聚乙烯醇水溶液；将AAO模板用上述溶胶充分浸润，并与清洗干净的ITO导电玻璃基板粘结后，置于高温干燥箱中干燥使溶胶缓慢失水变成凝胶，再热处理后随炉冷却；用砂纸打磨AAO模板表面，去离子水洗涤后用NaOH溶液腐蚀去除模板，再用去离子水和无水乙醇洗涤，即在ITO导电玻璃基板表面获得Sm2O3纳米阵列。本发明专利技术以溶胶-凝胶硬模板辅助技术制备Sm2O3纳米阵列，工艺设备简单，操作方便。可制备出尺寸和结构可控、结合力好的纳米阵列。所制备的Sm2O3纳米阵列在纳米光-电子器件等方面有广阔的研究和应用价值。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种溶胶?凝胶法制备Sm2O3纳米阵列的方法，其特征在于包括以下步骤：步骤一：将分析纯的Sm(NO3)3·6H2O加入30mL去离子水中搅拌制得Sm3+浓度为0.01～0.25mol/L的透明溶液；步骤二：采用氨水溶液调节透明溶液的pH值至4.5～7.0后搅拌形成溶胶，再向溶胶中加入0.5～2.0mL的聚乙烯醇水溶液，搅拌均匀；步骤三：将孔径为20～80nm，模板直径为Φ25～50mm，纳米孔径长度为10～20μm的AAO模板用上述溶胶充分浸润，并与清洗干净的ITO导电玻璃基板粘结后，置于高温干燥箱中，在60～80℃下干燥使溶胶缓慢失水变成凝胶，再于300～400℃下热处理1～3h后随炉冷却；步骤四：用砂纸打磨AAO模板表面，去离子水洗涤后用4mol/L的NaOH溶液腐蚀去除模板，再用去离子水和无水乙醇洗涤，即在ITO导电玻璃基板表面获得Sm2O3纳米阵列。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：殷立雄，王丹，黄剑锋，郝巍，李嘉胤，曹丽云，吴建鹏，
申请(专利权)人：陕西科技大学，
类型：发明
国别省市：