拘束抑制高功率激光深熔焊光致等离子体的装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种拘束抑制高功率激光深熔焊光致等离子体的装置，包括冷却铜块、浮动气帘和定位部件。冷却铜块包括轴对称的两个部分，朝向焊缝侧设有弧形面，冷却铜块依靠循环水冷却；冷却铜块底部设有浮动气帘，浮动气帘均匀喷出一定流量的惰性气体；定位部件用于将拘束结构固定在激光焊接工作头上，保持拘束结构与激光焊接工作头的相对位置固定。同时公开了拘束抑制高功率激光深熔焊光致等离子体的方法。本发明专利技术的装置和方法在高功率激光焊过程中抑制光致等离子体三维方向的膨胀，降低光致等离子体的波动幅度，从而获得稳定的焊接过程和良好的焊缝成形，能够广泛地应用于高功率激光深熔焊领域。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
拘束抑制高功率激光深熔焊光致等离子的装置，其特征在于：包括冷却铜块、浮动气帘和定位部件；所述冷却铜块包括左右两个部分，分别沿焊缝方向放置在焊缝两侧，所述冷却铜块朝向焊缝设有弧形面；所述冷却铜块下方设有所述浮动气帘；所述冷却铜块上方设有所述定位部件。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡艳，孙大为，朱俊杰，吴岳，王永贵，杨茜，
申请(专利权)人：上海交通大学，
类型：发明
国别省市：