用于从蚀刻基板有效地移除卤素残余物的设备制造技术

本发明专利技术提供一种用于从基板移除挥发性残余物的设备。在实施例中，一种用于从基板移除含卤素的残余物的设备包括适于操作以维持腔室内的真空的腔室及经定位以加热安置于该腔室中的基板的热模块。用于从基板移除含卤素的残余物的该设备亦包括以下至少者：A)温度控制底座，其具有从其径向延伸的适于将该温度控制底座支撑于该腔室主体的凸部上的突出物，该突出物将该基底与该腔室主体热隔离；B)对基板支架，其包括从弧形主体的内部边缘向内径向延伸的两个支撑凸缘，每支撑凸缘具有包括倾斜平台的基板支撑台阶；或C)圆顶形窗。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种底座，其包含：基底，其包含：外壁；突出物，其从所述外壁径向延伸；顶面；底面；安装特征结构，其中心定位于所述基底内，所述安装特征结构具有经配置以接纳来自所述顶面的光学终端的孔；凹槽，其形成于所述基底的所述底面上；及埋头孔，其形成于所述基底的所述顶面上，所述埋头孔经配置以允许光进入所述孔中；及冷却旋管，其安置于与所述基底的所述底面相邻的所述凹槽中。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：马修·F·戴维斯，肯尼斯·J·巴格，特雷斯·莫瑞，詹姆斯·D·卡达希，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：