【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种获得低稀释率涂层的激光熔覆方法，其特征在于，该方法是采用高斯分布或近似高斯分布的激光束进行激光熔覆，采用负离焦方式，激光束焦平面位于工件表面下方，具体包括：步骤1：在激光熔覆前，确定激光束焦平面位置；步骤2：将激光束焦平面与工件待加工表面重合后，沿工件待加工表面法线方向移动激光熔覆头，使其靠近工件，确定激光熔覆头的移动距离；步骤3：确定好激光熔覆头位置后，将激光熔覆的侧向送粉喷嘴固定，使激光熔覆的侧向送粉喷嘴对准工件待加工表面激光辐照位置；步骤4：确定激光熔覆的工艺参数，至少包括激光输出功率、激光扫描速度、熔覆粉末的送粉率；步骤5：设置好工艺参数后，激光熔覆头输出激光束，同时激光熔覆头按照设定的扫描速度开始移动，熔覆粉末从侧向送粉喷嘴中喷出，落入激光束辐照区域，熔化并在工件表面形成熔池，随着激光束的移走，熔池快速凝固，形成熔覆涂层。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：林学春，高文焱，赵树森，王奕博，刘发兰，周春阳，
申请(专利权)人：中国科学院半导体研究所，
类型：发明
国别省市：
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