导电性膜及导电性膜卷制造技术

本实用新型专利技术涉及一种导电性膜及导电性膜卷。提供一种导电性膜，所述导电性膜在卷成卷状时邻接的膜没有压接而能够维持高品质。导电性膜（1）具备膜基材（2），形成在该膜基材的一侧的第1透明导电体层（3），形成在第1透明导电体层（3）的与膜基材（2）相反侧的第1铜层（4），形成在膜基材（2）的另一侧的第2透明导电体层（5），形成在第2透明导电体层（5）的与膜基材（2）相反侧的第2铜层（6），形成在第1铜层（4）的与第1透明导电体层（3）相反侧、厚度为1nm～15nm的第1氧化被膜层（7），第1氧化被膜层（7）实质上仅由氧化亚铜构成。导电性膜卷是将所述的导电性膜（1）卷成卷状而构成的。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种导电性膜，其特征在于，所述导电性膜具备：?膜基材，?形成在所述膜基材的一侧的第1透明导电体层，?形成在所述第1透明导电体层的与所述膜基材相反侧的第1铜层，?形成在所述膜基材的另一侧的第2透明导电体层，?形成在所述第2透明导电体层的与所述膜基材相反侧的第2铜层，?形成在所述第1铜层的与所述第1透明导电体层相反侧、厚度为1nm～15nm的第1氧化被膜层，所述第1氧化被膜层实质上仅由氧化亚铜构成。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：藤野望，鹰尾宽行，石桥邦昭，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：实用新型
国别省市：