光学修剪的系统和方法技术方案

一种将图案曝光于光敏表面上的方法，该方法包括：在表面上形成包括图像数据的行和列的矩形矩阵图案的空间调制光束，其中空间调制光束可操作以曝光表面的连续子曝光区域，每一个子曝光区域与图像数据的一数据关联；将空间调制光束的行或列之一与扫描方向对准，而将空间调制光束的行或列中的另一个与交叉扫描方向对准，用于曝光表面；在交叉扫描方向上，将调制光束的至少一部分相对于调制光束的第二部分修剪了小于两个子曝光区域之间在交叉扫描方向上的中心到中心的距离的量；使用修剪的空间调制光束在扫描方向上曝光表面；以及由于扫描而在交叉扫描方向上重叠曝光的子区域。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：Y卡齐尔，E梅莫恩，
申请(专利权)人：奥博泰克有限公司，
类型：
国别省市：