双孔装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种装置，包括上室，中间室和下室，其中，所述上室通过第一孔与所述中间室连通，所述中间室通过第二孔与所述下室连通，其中，所述第一孔和第二孔的直径约1纳米到约100纳米，彼此间隔约10纳米至约1000纳米，且其中各室包括用于连接电源的电极。本发明专利技术还提供使用该装置，特别是用于多核苷酸测序的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：W·邓巴，金正錫，
申请(专利权)人：加利福尼亚大学董事会，
类型：
国别省市：