光学测量系统、光学测量装置、校正用构件以及校正方法制造方法及图纸

本发明专利技术所涉及的光学测量系统具备：探头(3)，其具有多个受光光纤和照射光纤；校正用构件(4)，其具有框架构件和荧光体，在荧光体表面与探头(3)的前端(33)相向的状态下使用，其中，该荧光体设置于框架构件的内部，通过属于与散射光测量波长带不同的波长带的波长的激励光来发出荧光；荧光激励用光源(22b)，其将激励光提供给照射光纤；测量部(24)，其对多个受光光纤的各输出光进行测量；以及校正处理部(27b)，其根据测量部(24)对来自多个受光光纤(34)的输出光进行测量的测量结果，来对多个受光光纤间的受光强度进行校正，其中，该输出光是针对由于激励光的照射而从荧光体产生荧光的输入光。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：上村健二，菅武志，
申请(专利权)人：奥林巴斯医疗株式会社，
类型：
国别省市：