一种八晶体管静态随机存储器单元制造技术

技术编号:9199362 阅读:137 留言:0更新日期:2013-09-26 03:19
本发明专利技术提供一种八晶体管静态随机存储器单元,至少包括:第一反相器,由第一PMOS晶体管及第一NMOS晶体管组成;第二反相器,由第二PMOS晶体管及第二NMOS晶体管组成;传输门,由第三NMOS晶体管、第四NMOS晶体管第五NMOS晶体管及第六NMOS晶体管组成;其中,所述第一PMOS晶体管、第一NMOS晶体管、第二PMOS晶体管及第二NMOS晶体管均采用源体欧姆接触体引出结构。本发明专利技术在晶体管的源区进行与体区掺杂相同极性的重掺杂,实现源区与体区的欧姆接触,消除部分耗尽SOI晶体管的浮体效应,不需要额外增加工艺和版图,并保证了单元的高集成度。本发明专利技术与常规CMOS工艺兼容,适用于工业生产。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种八晶体管静态随机存储器单元,其特征在于,至少包括:第一反相器,由第一PMOS晶体管及第一NMOS晶体管组成;第二反相器,由第二PMOS晶体管及第二NMOS晶体管组成;传输门,由第三NMOS晶体管、第四NMOS晶体管第五NMOS晶体管及第六NMOS晶体管组成;其中,所述第一PMOS晶体管、第一NMOS晶体管、第二PMOS晶体管及第二NMOS晶体管均采用源体欧姆接触体引出结构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈静伍青青罗杰馨柴展吕凯王曦
申请(专利权)人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所
类型:发明
国别省市:

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