一种发光显示结构的制作方法技术

本发明专利技术公开了一种发光显示结构的制作方法。采用表面不导电的基片作为衬底，采用微加工技术和镀膜技术在基片上依次制作种子层、电极层和荧光材料层堆叠而成的平行阵列图案。采用种子层诱导生长技术，在图案侧壁生长场发射材料团簇；对阵列中的平行排列图案施加偏压，诱导位于低压端(阴极)侧壁的场发射材料团簇发射电子；发射电子可轰击高压端(阳极)表面的荧光材料层，实现发光显示功能。本发明专利技术获得的发光显示结构具有制备工艺简单、阴阳极间距精确可控以及阴阳极可实现自对准等优点，可避免立体式发光显示结构微加工工艺复杂、对准精度要求高的问题。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种发光显示结构的制作方法，其特征在于包括以下步骤：a)采用表面不导电的衬底作为基片；b)结合微加工图形化技术以及镀膜技术在基片上制作种子层、电极层和荧光材料层堆叠而成的平行阵列图案；c)在图案侧壁生长场发射材料团簇；d)对阵列中的平行图案施加偏压，诱导位于低压端(阴极)侧壁的场发射材料团簇发射电子；e)发射电子可轰击高压端(阳极)表面的荧光材料层，实现发光显示。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：佘峻聪，李铎，邓少芝，许宁生，
申请(专利权)人：中山大学，
类型：发明
国别省市：