有机聚硅氧烷及其制造方法、含有机聚硅氧烷的化妆材料技术

技术编号:9193294 阅读:141 留言:0更新日期:2013-09-25 22:36
本发明专利技术提供一种由下述平均化学式(1)所表示的有机聚硅氧烷。由此,本发明专利技术提供一种有机聚硅氧烷,其可以形成乳化稳定性及经时稳定性优异且化妆持续性良好的化妆材料,并且提供一种对粉状体的分散特性优异的有机聚硅氧烷。在通式(1)中,R1分别独立为碳数1~12个的1价烃基,R2为氢原子、碳数1~15的1价烃基、及碳数1~6的1价酰基中的任一个,n为0~1000的整数,m为2或3,X为碳数2~15的2价烃基,m为2时,Y为C-CH2-CH3,m为3时,Y为碳原子,s为0~100的整数,t为0~50的整数,z为0~50的整数。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种由下述平均化学式(1)所表示的有机聚硅氧烷,在上述通式(1)中,R1分别独立为碳数1~12个的1价烃基,R2为氢原子、碳数1~15的1价烃基、及碳数1~6的1价酰基中的任一个,n为0~1000的整数,m为2或3,X为碳数2~15的2价烃基,m为2时,Y为下述式m为3时,Y为碳原子,s为0~100的整数,t为0~50的整数,z为0~50的整数。FDA00002953375700011.jpg,FDA00002953375700012.jpg

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:森谷浩幸
申请(专利权)人:信越化学工业株式会社
类型:发明
国别省市:

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