一种薄层流体式低应力抛光装置制造方法及图纸

一种薄层流体式低应力抛光装置，属于超精密光学表面加工领域。包括密封工作舱、转台、阳极板、阳极探头、阴极平台、工件、第一导管、升压泵、升降台、第二导管、塑形嘴、液体收集装置等。工作时，将工件固定于转台，阳极板或阳极探头和阴极平台之间产生电场；电流变抛光液经搅拌均匀后由升压泵升压，流经第一、第二导管进入液体收集装置；在压力的作用下，液体流经塑形嘴进入薄层区域，在流动动力和剪切力的作用下，实现表面材料去除。本发明专利技术解决了薄型光学元件由于较大正向压力易导致工件破碎的问题，同时改善了小工具加工易导致中高频误差残留的情况，在高精度、无亚表面损伤、中高频可控的光学元件加工中发挥重要的作用。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种薄层流体式低应力抛光装置，包括阳极板，密封工作舱，工件，阴极平台，升降台，抛光废液，废液分离搅拌装置，第一导管，升压泵，第二导管，抛光液收集装置，二维运动平台，阳极探头，塑形嘴，电流变抛光液；?上述组成部分的连接关系为：?工件固定于阴极平台上；阴极平台绝缘安装在升降台台面上，与高压电源阴极相连；阳极板与阴极平台相对，绝缘固定在密封工作舱顶部；密封工作舱将阴极平台、阳极板和升降台台面密封起来；密封工作舱与废液分离搅拌装置相通；第一导管连接废液分离搅拌装置与升压泵；第二导管连接升压泵与抛光液收集装置；抛光液收集装置固定在密封工作舱外侧；塑形嘴固定在抛光液收集装置左侧，处于密封工作舱内部；阳极探头绝缘连接在二维运动平台上，随二维运动平台的运动改变位置；二维运动平台由数控系统控制；?本专利技术的一种薄层流体式低应力抛光装置的工作过程如下：?工作时，将配置好的电流变抛光液充入废液分离搅拌装置的搅拌箱，使液体混合均匀；电流变抛光液经第一导管由升压泵升压后进入抛光液收集装置，经过塑形嘴塑形后进入抛光区域；在抛光区域的电场作用下，变成具有一定表观黏度和剪切应力的Bingham流体，在流体动压力和剪切力的作用下，实现对表面材料的去除；经过抛光区域后电流变抛光液变成抛光废液进入废液分离搅拌装置，经过处理后的抛光废液重新作为电流变抛光液循环使用。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：冯云鹏，程灏波，苏景诗，王谭，谭汉元，丁仁强，
申请(专利权)人：北京理工大学，
类型：发明
国别省市：