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一种激光剥离薄膜LED及其制备方法技术

技术编号:9172396 阅读:139 留言:0更新日期:2013-09-19 21:54
本发明专利技术公开了一种激光剥离薄膜LED及其制备方法。本发明专利技术的激光剥离薄膜型LED的芯片单元包括:n型层、量子阱、在量子阱上的p型层、在p型层上镶嵌的周期性的金属纳米结构、p电极、绝缘层及n电极,上述结构倒扣在衬底上;以及在芯片一角的p焊盘。本发明专利技术使用了表面等离激元与量子阱结构的共振耦合作用,大大增加了大注入下LED的辐射复合和效率和出光效率,同时对发光效率低的黄绿光、紫外光LED也有一定的效果;采用激光划片和腐蚀的方法,分割芯片单元,减少外延片的翘曲,降低工艺难度和成本;p焊盘采用保护层和银层蒸镀工艺,简化了p焊盘的制作工艺,降低工艺成本;采用热磷酸粗化的方法,降低工艺成本,提高LED的出光效率。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种激光剥离薄膜LED,其特征在于,所述激光剥离薄膜LED的芯片单元包括:芯片部分和衬底;芯片部分包括:n型层(1),在n型层上具有与n电极的突起相对应的周期性n型盲孔,在n型层上的周期性的n型盲孔之间的量子阱(2),在量子阱上的p型层(3),在p型层上镶嵌的周期性的金属纳米结构(4),在p型层上的p电极(5),在p电极上及n型盲孔的侧壁上的绝缘层(6),绝缘层上的n电极(7),n电极具有周期性的突起,周期性的突起伸入至n型层内;衬底包括导电导热衬底(8)和n电极焊盘(9);芯片部分倒扣在衬底上;以及在芯片部分一角的p焊盘(10)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:陈志忠焦倩倩姜爽付星星姜显哲马健张国义
申请(专利权)人:北京大学
类型:发明
国别省市:

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