【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种阵列基板的扇出线结构，其特征在于，包括：布置在阵列基板扇出区的第一扇出线以及第二扇出线；所述第二扇出线底部设置有附加导电膜，所述附加导电膜与所述第二扇出线的第一导电膜之间形成一个用以减小扇出线之间的阻抗差异的附加电容，所述附加电容的大小由所述附加导电膜与所述第一导电膜之间的重叠面积确定。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：杜鹏，施明宏，姜佳丽，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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