一种制备单晶石墨烯的装置制造方法及图纸

一种制备单晶石墨烯的装置，它包括真空泵、进气口、外腔、加热装置、出气口、内腔和排气管，其结构特点是外腔中部内设有内腔，加热装置位于外腔外，并紧靠内腔位置处，外腔的两端分别设有进气口和出气口，出气口连接在排气管的一端，排气管上连有真空泵；所述的内腔结构为紧靠进气口的一端封闭，另一端敞开；所述的内腔和外腔为空心的圆柱形或方形空腔。使用本装置采用CVD技术可以在铜、铂等金属上制备出高质量的单晶石墨烯。本实用新型专利技术不仅结构简单，使用也非常方便，制备单晶石墨烯品质好，对石墨烯的尺寸及层数易于控制；能在金属表面制备出的大尺寸、低成本、电子迁移率高、对称性好的单晶石墨烯。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种制备单晶石墨烯的装置，它包括真空泵、进气口、外腔、加热装置、出气口、内腔和排气管，其特征在于外腔中部内设有内腔，加热装置位于外腔外，并紧靠内腔位置处，外腔的两端分别设有进气口和出气口，出气口连接在排气管的一端，排气管上连有真空泵。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王立，王朝成，
申请(专利权)人：南昌大学，
类型：实用新型
国别省市：