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扇出晶圆级半导体芯片三维堆叠封装结构及工艺制造技术

技术编号:9144507 阅读:163 留言:0更新日期:2013-09-12 05:54
一种扇出晶圆级半导体芯片三维堆叠封装结构,包括数个扇出晶圆级半导体芯片封装体,及封装体之间的凸点阵列及高分子保护材料,其特征在于所述的扇出晶圆级半导体芯片封装体的第一半导体芯片背面及第二半导体芯片背面由贴片材料键合一起,通过模塑料密封成一个整体,在封装体的模塑料上设有垂直通孔并填充导电材料,在模塑料密封体的上下表面分别制作再分布层,在再分布层上设有凸点,通过再分布层的导电金属层连接半导体芯片、通孔中的导电材料以及凸点,实现各半导体芯片之间的电互联,通过堆叠工艺将数个扇出晶圆级半导体芯片封装体进行堆叠。本发明专利技术的优点是能有效提高三维封装的密度,减小封装体的厚度,且工艺流程简单,成本低,可靠性高。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种扇出晶圆级半导体芯片三维堆叠封装结构,包括数个扇出晶圆级半导体芯片封装体,多个封装体之间的凸点阵列及高分子保护材料,每个扇出晶圆级半导体芯片封装体包括数个半导体芯片、载片、贴片材料、模塑料、数个再分布层、通孔、填充导电材料、凸点,其特征在于所述的扇出晶圆级半导体芯片封装体的第一半导体芯片背面及第二半导体芯片背面通过键合工艺经由贴片材料键合一起,并通过模塑料密封成一个整体,第一半导体芯片正面的有源面及第二半导体芯片正面的有源面暴露在模塑料之外,并与模塑料的上下表面在同一平面上,在半导体芯片区域之外的模塑料上制作垂直通孔,并在通孔内填充导电材料,在模塑料密封体的上下表面分别制作第一再分布层与第...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘胜陈照辉陈润汪学方刘孝刚李超
申请(专利权)人:刘胜
类型:发明
国别省市:

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