【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种纳米级超材料微结构的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：a、将金属薄膜覆在涂有粘结剂的基板上，烘干并保持干燥；b、在金属薄膜表面涂抹一层光刻胶；c、将具有纳米级线宽图形的掩膜板对准光刻胶，用紫外线光对光刻胶进行曝光，然后去除未曝光的光刻胶；d、再通过腐蚀液去掉微结构以外的金属薄膜，从而在基板上获得纳米级线宽的微结构。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘若鹏，赵治亚，金曦，熊晓磊，
申请(专利权)人：深圳光启创新技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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