离子发生器的清洁设备制造技术

技术编号:9120354 阅读:159 留言:0更新日期:2013-09-05 07:44
本实用新型专利技术涉及显示技术领域,特别涉及一种离子发生器的清洁设备;包括基座、设置在该基座上的对位升降装置,以及设置在所述对位升降装置上的刷头装置;所述对位升降装置用于带动所述刷头装置对所述离子发生器进行清洁。本实用新型专利技术能够实现对离子发生器的尖端放射部位进行自动地清洁,其可采用对位升降装置的设计,可将刷头装置伸至离子发生器的负离子尖端放射头内,并与其内的尖端部对接,以对其进行精准的对位清刷,解决了现在因人工对负离子尖端放射头进行灰尘清理而造成的清理繁琐、清理不彻底和尖端部放电而对人身造成损害等问题;省时省力,提高了工作效率,提高了除尘质量。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种离子发生器的清洁设备,其特征在于:包括基座、设置在该基座上的对位升降装置,以及设置在所述对位升降装置上的刷头装置;所述对位升降装置用于带动所述刷头装置对所述离子发生器进行清洁。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:马良文斌
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司北京京东方显示技术有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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