用于保持晶片的容纳装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及用于容纳并且保持晶片的容纳装置，具有下面的特征：保持面（1o），用于将晶片保持在保持面（1o）上的保持装置和-补偿装置（3，4，5，6），用于对晶片的局部和/或全局变形进行主动的、尤其是局部可控制的、至少部分的补偿。本发明专利技术还涉及用于使用前述容纳装置将第一晶片与第二晶片对齐的装置和方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：M温普林格，T瓦根莱特纳，A菲尔伯特，
申请(专利权)人：EV集团E·索尔纳有限责任公司，
类型：
国别省市：