【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种新型蚀刻片连续曝光机，其特征在于，包括：上台框与下台框，所述上台框设于所述下台框上方，所述上台框与所述下台框之间的空间形成曝光区域，所述上台框与下台框均为矩形，所述下台框下侧面顶角处均设有一小气缸，所述上框台下侧面顶角处均设有一大气缸，所述上台框与下台框两侧下方均设有一支撑板，所述小气缸与所述大气缸均连接于所述支撑板顶面，每一所述支撑板的长度长于所述上台框与所述下台框的长度，两所述支撑板之间设有一滚轴，且所述滚轴位于曝光区域的一侧，所述滚轴与所述曝光区域之间设有固定传送滑轮。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：何公明，
申请(专利权)人：宁波东盛集成电路元件有限公司，
类型：发明
国别省市：
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