偶氮化合物及包含所述偶氮化合物的染料基偏振膜和偏振片制造技术

由式(1)或(2)表示的偶氮化合物(在式中，A表示具有至少1个取代基的苯基或萘基。R1～R4表示氢原子、低级烷基或低级烷氧基，且R1～R4中的至少一个是具有磺基的低级烷氧基。X表示任选取代的氨基、任选取代的苯甲酰氨基、任选取代的苯氨基、任选取代的苯偶氮基或任选取代的萘并三唑基)及其盐。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
由式(2)表示的偶氮化合物及其盐其中A表示各自具有至少一个取代基的苯基或萘基，R1～R2中的至少一个是具有磺基的C1?C5低级烷氧基，且剩余的各自独立地表示氢原子、C1?C5低级烷基或C1?C5低级烷氧基，X表示可具有取代基的氨基、可具有取代基的苯甲酰氨基、可具有取代基的苯氨基、可具有取代基的苯偶氮基或可具有取代基的萘并三唑基。FDA00003194063400011.jpg

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：西口卓斗，大野博昭，樋下田贵大，贞光雄一，
申请(专利权)人：日本化药株式会社，宝来技术有限公司，
类型：发明
国别省市：