【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种摆片下垂量精密测量装置,包括微型步进电机、联轴器、第一恒测力钮、第一千分尺、刻度盘、表头、摆片、基体、支架、激光发射器、圆筒、第二千分尺、第二恒测力钮、底座、控制系统、支柱、目镜、通孔、U型臂和套筒;其特征在于:所述的基体包括通孔、U型臂和套筒,?U型臂的一端与套筒连接,另一端开有两级阶梯通孔连接,上半部分通孔的直径大于下半部分通孔的直径;套筒与通孔的轴线方向都为竖直方向;所述的底座上设有微型步进电机;微型步进电机通过控制系统控制;微型步进电机的输出轴通过联轴器与第一千分尺的第一恒测力钮连接,第一千分尺通过螺钉固定在基体的套筒中,基的U型臂通过螺钉固定连接在支架上,支架垂直固定在底座的上底面,摆片放在基体通孔中,基体的左侧设有目镜,目镜固定在支柱上,使目镜能够观察到摆片下端,基体的右侧设置有激光发射器,激光发射器设置在第二千分尺的表头上,通过第二千分尺调节位置,第二千分尺通过螺钉固定在圆筒中,圆筒通过圆筒臂固定在支架上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:张云电,方亮,陆志平,喻家英,
申请(专利权)人:杭州电子科技大学,
类型:发明
国别省市:
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